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真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』
PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…
ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』
PR課題解決事例を進呈中!ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…
『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ(還元方式)・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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数μmから数百nmの粒子を摩擦帯電により分散、均一に散布する、乾式散布…
を抑え、粒子の利用効率を改善するとともに、大きなサイズのワークにおいても均一な分散性能を確保します。 100mm×100mm〜300mm✕300mm程度のワークサイズに対応した、研究開発・試作用の卓上散布機です。 (1500mm✕1500mm等の大型ガラスへの対応、インライン向けの量産装置も製造可能) ※詳しくはお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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数μmから数百nmの粒子を摩擦帯電により分散、均一に散布する、乾式散布…
を抑え、粒子の利用効率を改善するとともに、大きなサイズのワークにおいても均一な分散性能を確保します。 100mm×100mm〜300mm✕300mm程度のワークサイズに対応した、研究開発・試作用の卓上散布機です。 (1500mm✕1500mm等の大型ガラスへの対応、インライン向けの量産装置も製造可能) ※詳しくはお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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数百nm〜数十μmの粒子を摩擦帯電により分散、均一に散布する、散布装置…
卓上型 乾式散布装置 δ−1(デルタワン) 基本構成 1 散布チャンバー チャンバー ✕ 1式 高圧ユニット ✕ 1式(※オプション) 調整範囲 ±1〜10kv 2 秤量ユニット 秤量器 ✕ 1式 ホッパー ✕ 1式(粒子収容器) エアー機器 ✕ 1式 操作パネル ✕ 1式 制御部 ✕...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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アズサイエンス株式会社 松本本社