材料開発DXを加速! 活用事例紹介ウェビナー開催＜無料＞

PR原子レベルのシミュレーションとマテリアルズ・インフォマティクス活用で材…

半導体や電子部品から日用品に至るまで、様々な材料開発において、原子･分子レベルでの設計が求められています。 シュレーディンガーの『Materials Science Suite』は、各種の原子・分子レベルのシミュレーションおよび機械学習により、材料開発を大幅に加速するソフトウェア・プラットフォームです。 さらに、データ駆動型アイデア創出プラットフォーム『LiveDesign』は、計算技術を活用...

メーカー・取り扱い企業： シュレーディンガー株式会社

【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化（No.2220）

PR【試読できます】－成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄－

書籍名：先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか！ 　　新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ■　本書のポイント　1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社技術情報協会

ロールtoロール方式のスパッタ技術を使った反射防止フィルム

【技術資料を無料進呈】当社の反射防止フィルムのしくみ、生産方法、メリッ…

グによる 製造を行っています。 スパッタリングは成膜のための代表的な技術で、真空チャンバー内で膜の材料となるターゲット材に 高電圧下でイオン化させたアルゴンイオンを叩きつけ、ターゲット材の原子を弾き飛ばすことで基材の 表面に付着・積層させます。スパッタリング工法ではスパッタ装置のチャンバー内に余計なガスがあると アルゴンイオンがそのガスとぶつかってしまうため、内部を高真空に保つ必要が...

メーカー・取り扱い企業： デクセリアルズ株式会社

ブラックシリコンフォトダイオード

【200nmから950nmの広い波長範囲において非常に高い感度を持つフ…

ElFys社のブラックシリコンフォトダイオードは、原子層蓄積（ALD）コーティングを組み合わせた表面ナノ構造技術により集光性を高めた、広い波長範囲において高感度に光を検出できるフォトダイオードです。 波長範囲200nmから950nmにおいて96％以上...

メーカー・取り扱い企業： ケイエルブイ株式会社

中赤外周波数標準器『フリースペース用リファレンスガスセル』

30年以上のガスセル販売実績！ガスセル技術のグローバルサプライヤー！

は、アンモニア（NH3）、アセチレン（C2H2）、シアン化水素（HCN）、メタン（CH4）などが含まれます。 これらは、混合物および窒素バックフィル（最大圧力740Torr）の濃度で提供できます。 原子蒸気を提供することはできません。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ルミネックス

プラズマ源 TESシリーズ_Polygon Physics社製

幅広い用途を網羅した超小型ECR（電子サイクロトロン共鳴）バイポーラ技…

り、柔軟なイオンおよび電子ビームソリューションの設計と製造が出来、幅広いアプリケーションに対応致します。 ■特徴 ・手のひらに収まる超小型低消費電力 ・用途に合わせてイオン源、電子源、プラズマ源、原子源を選択可能 ・ビーム形状やビームサイズを変換可能 ・フランジの有無で任意の場所に設置可能 ・メンテナンス性がよい ■モデル ・TES-GO ・TES-40 ・TES-63 ・TES-100 ・N...

メーカー・取り扱い企業： ケイエルブイ株式会社