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PR先端デバイスの開発など、優れた信号解析性能が要求されるアプリケーション…
高性能オシロスコープPicoScope 6428E-Dは、 既存のPicoScope 6000Eシリーズの性能を拡張したもの。 高エネルギー物理学、LIDAR、VISAR、分光分析、加速器、 および他の高速信号解析に取り組む科学者や研究者にとって理想的なツールです。 【特徴】 ・周波数帯域 3 GHz ・最高サンプリング速度 10 GS/s ・分解能可変8-12ビット ・メモリ4GS ・アナロ...
メーカー・取り扱い企業: Pico Technology Ltd.
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PRQuantum Computingに好適!信号生成アプリケーションに有…
『AWG』は、発生する信号を、直接qubitに印可または、AOM、AOD、EOMに 印可してレーザ制御を行うことにより、qubit内の量子操作とqubitの状態の 読み出し処理ができる任意波形発生器です。 DDS(Direct Digital Synthesis)機能を備えており、デバイスを簡単な コマンドで高速に制御できるため、高速かつ複雑な各種量子操作が可能。 また、qubi...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エレクトロニカIMT事業部
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高圧パルスジェット DP-Gun マスク・ガラス・ウェハー洗浄に
同じ圧力なら水の使用量が1/3、同じ流量なら圧力が3倍、少ない流量で繰…
ントロールユニット(DP-Gun用ドライバー2台分内蔵) ・ 操作パネル ・ 外部制御対応(スタート・ストップ・アラーム出力等) ■設定項目 1 圧力 (供給圧力 2~10MPa) 2 周波数 (スプレー回数 5~30Hz) 3 パルス幅 (スプレー開時間 5~15ms) ※1 ノズルチップの形状・ポンプ容量 は 洗浄の目的 必要流量・DP-Gunの設置数量により別途ご相...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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各種マスクやガラス、ウェハー研磨後の洗浄に!1秒間に30回のノズル開閉…
コントロールユニット(DP-Gun用ドライバー2台分内蔵) ・ 操作パネル ・ 外部制御対応(スタート・ストップ・アラーム出力等) ■設定 1 圧力 (供給圧力 2~10MPa) 2 周波数 (スプレー回数 5~30Hz) 3 パルス幅 (スプレー開時間 5~15ms) ※1 ノズルチップの形状・ポンプ容量 は 洗浄の目的 必要流量・DP-Gunの設置数量により別途ご相...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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