真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

PRギ酸・水素還元両対応！最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気（ギ酸または水素）、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

【総合カタログ】はんだ付けの最新技術とセル生産設備

エレクトロニクス工場で使用する、ハンダ付け関連装置を始めとした実装設備…

酸化カス発生量が非常に少なく、フロー半田付装置を使用した場合に比べて、 はんだ購入費で設備コストを2年で回収できる「パレット式部分半田付装置 FZHシリーズ（パレット式）」をはじめ、自在レイアウトが可能な小型装置で、 セル生産に最適な「小型セル部分半田付装置　Solder Station Ｋ２」など 各種半田付装置や特注自動機、各種冶工具、消耗品、機械メンテナンスサービス など、セル生産...

メーカー・取り扱い企業： ＦＡシンカテクノロジー株式会社