真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

PRギ酸・水素還元両対応！最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気（ギ酸または水素）、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

高真空基板加熱装置『SP-1321』

机上に設置可能なコンパクトサイズ！大学様の研究室に適しています

『SP-1321』は、高真空中で小形の基板を加熱する装置です。 ロードロック室を備えることにより、加熱室を常にクリーンな状態に 保つことが可能。また、高真空での加熱が可能なほか、プログラム温度制御 により、安定した温度制御を実現しています。 机上に設置可能なコンパクトサイズ、研究室などでの実験装置として 適しています。 【特長】 ■高真空中で小形の基板を加熱 ■高真空で...

メーカー・取り扱い企業： サイエンスプラス株式会社