• 機械器具設置・重量装置搬送・最大30tの『パワーアタック』 製品画像

    機械器具設置・重量装置搬送・最大30tの『パワーアタック』

    PR充電バッテリー/コンパクトな電動ムーバー「パワーアタック」 重量装置…

    「パワーアタック」はテコの原理を利用したウォーキータイプの電動ムーバーです。 ◆ご用途/実績例はこちら ・大型・重量印刷機の工場内搬入・設置(機械器具設置・とび土木業) ・牧場内サイロ建設現場で資材搬送(機械器具設置・建設業) ・製造現場でレール上の車両移動(鉄道車両メーカー) ・製造現場で重量製品の工場内移動・出荷(機器製造メーカー) ・分取カラム装置の工場内移動(化学薬品メーカ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ダイナテック 本社

  • 高圧窒素富化ガス発生装置『HND-RA』※作業事例も紹介中 製品画像

    高圧窒素富化ガス発生装置『HND-RA』※作業事例も紹介中

    PR【デモ機相談可能】100V電源で使用可。持ち運びやすくボンベ交換も不要…

    『HND-RA』は、100V電源で使える高圧窒素富化ガス発生装置です。 ボンベを用いずに露点-40℃以下、濃度85%の窒素ガスを吐出・供給でき、 煩わしいボンベの搬送・交換作業が不要に。現場の省力化が可能です。 3種類の吐出圧力範囲に対応し、ロー付け部に負荷をかけない配管気密試験や スケールの少ないパージ作業など、様々な用途に使用できます。 【特長】 ■100V電源で使用可能 ■0~1.0、...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サタコ

  • Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100 製品画像

    Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300 製品画像

    Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

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