ノンフロンペルチェチラー　小型、軽量、低騒音、低振動、省エネ！

省エネ効果でカーボンニュートラル、カーボンプライシング対策！ 温室効果…

信頼性の高い高性能ペルチェモジュールとSolidStateCoolingSystems社が開発した独自の特許技術を持つ熱交換プレートの組み合わせにより、非常にコンパクトながら高い冷却能力を発揮するチラーです。フロンガスを一切使用しておりませんので、GWP規制による使用制限やフロン管理のための点検作業が不要です。また、冷凍機を搭載していないことから、振動や騒音も少なく、摩耗や劣化による不具合を軽...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

小型で軽量、低騒音、低振動、コンパクトなノンフロンペルチェチラー

装置に組み込めるコンパクト設計でありながら160W～600W冷却能力と…

信頼性の高い高性能ペルチェモジュールとSolidStateCoolingSystems社が開発した独自の特許技術を持つ熱交換プレートの組み合わせにより、非常にコンパクトながら高い冷却能力を発揮するチラーです。フロンガスを一切使用しておりませんので、GWP規制による使用制限やフロン管理のための点検作業が不要です。また、機械的部品をほとんど使用しておりませんので、振動や騒音も少なく、摩耗や劣化によ...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

ペルチェ式小型チラーユニット

静かで、振動も少ないペルチェ式チラーユニットです。

ペルチェ式小型チラーユニットBCUはペルチェ冷却を採用した、静かで、振動も少ないチラーユニットです。半導体製造装置、理化学機器で精度良い温度管理を必要とするときご利用ください。...水、エチレングリコールなどの循環液の液温を制御し、一定温度に保ちます。コンプレッサーや冷媒ガスを使っていないチラーユニットは、冷媒方式に比べ冷却能力は劣りますが、小型、無振動、高精度温度制御が可能な冷却装置です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社光伸舎

小型レーザー装置に最適！ペルチェチラー　UCシリーズ

超小型！低振動・低騒音・高い温度安定性。小型レーザー装置の温度制御に最…

超小型、静かな動作音。最も信頼できる電子温調モジュールにより、正確な温度コントロールを提供致します。循環水の温度変化に素早く応答して室温付近の温度制御さえも±0.1℃の温度安定性を維持します。 この手のひらサイズのチラーは装置の内部・上部に容易に設置できます。また、標準装備のRS232Cインターフェィスにより簡単に外部制御をおこなうことができます。 【特徴】 ■CCD カメラ ■ダイオ...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

小型ノン・フロン ペルチェチラー Piccolo 280 OLÉ

環境にやさしい小型ノンフロン・チラー

〇幅21.5cm×奥行31.0cm×高さ31.2cmのコンパクトサイズ ラボでの使用に最適な、小型で軽量のボディです。 4～70℃の幅広い温度範囲をカバーします。高い冷却能力と加熱能力を持ち、素早い温度コントロールが可能です。小型なボディながら強力なポンプを搭載し、パワフルな循環を行います。 〇フロン不使用、低消費電力 電子冷却式チラーなので、フロンガスを使用しません。ガスを使用す...

メーカー・取り扱い企業： 英弘精機株式会社 物性・分析機器事業部

消費電力大幅削減！薬液温調システム

薬液の流路チューブをダイレクトに温度制御するので従来の間接温調方式に比…

半導体製造の洗浄過程で使用される薬液の温度管理は製品の品質や生産性を左右する重要なファクターです。 ペルチェモジュールを用いた本装置は洗浄薬液を±0.05℃で温度制御を行います。 非常に小型のモジュールで、流路チューブをダイレクトに温度制御する方式ですので従来のタンクで薬液を温調するよりも10-30%使用量の削減が見込めます。 さらに動作部分がないシンプル構造のため振動・ノイズもなくメンテナ...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

小型レーザー装置に最適！ペルチェチラー　TCubeEdge

コンパクト！低騒音・低振動・正確な温度コントロール！環コストパフォーマ…

冷却能力最大290WのTCubeEdgeはすぐれた温度信頼性であなたの機器のパフォーマンスを最適化して高い採算性をもたらします。TCubeEdgeは循環水の温度変化に素早く応答して0℃～65℃の温度コントロールにおいて室温付近でさえも±0.05℃の再現性を実現します。スムーズなフローを実現するCentrifugalポンプは動作時の振動がなく、レーザー、光学、分析装置の様々なアプリケーションにて要求...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

薬液温調システム CLEANSTREAM

薬液の流路チューブをダイレクトに温度制御するので従来の間接温調方式に比…

半導体製造の洗浄過程で使用される薬液の温度管理は製品の品質や生産性を左右する重要なファクターです。 ペルチェモジュールを用いた本装置は洗浄薬液を±0.05℃で温度制御を行います。 非常に小型のモジュールで、流路チューブをダイレクトに温度制御する方式ですので従来のタンクで薬液を温調するよりも10-30%使用量の削減が見込めます。 さらに動作部分がないシンプル構造のため振動・ノイズもなくメンテナ...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社