高耐熱シリコン両面粘着シート『TACSIL F20』

PRサンプルプレゼント！260℃までＯＫ！500回以上繰り返して使える高耐…

『TACSIL F20』は、リフロー工程で500回以上繰返し使用しても 均一な粘着力を維持する両面テープ。 対応温度範囲は－73℃～260℃で、安定性に優れているのが特長です。 特にFPCや薄い基板の実装工程で実績多数。 基板が動いたり、カールするのを抑制します。 サンプルを無料プレゼント中！ お問い合わせよりお気軽にお申込みください。 【特長】 ■粘着強度にバリエーシ...

メーカー・取り扱い企業： イーグローバレッジ株式会社 ＭＩ本部

ナノバブル発生装置　PANDORA　コストダウン　生産向上

PR砥石寿命２倍 砥石切込み５倍 加工抵抗50％減 ファインバブルを…

ナノバブル発生装置　PANDORA（パンドラ）は製造業向けに大量のナノバブルとマイクロバブルを同時発生させる事が出来る装置です。 ナノバブルを現在お使いのクーラントに発生させる事により 冷却効果、洗浄効果を発揮し 飛躍的に砥石の寿命を延ばしたり、冷却性能を上げ寸法精度を向上させたり、 条件UPにて加工能率を向上させることが可能です。 是非、業界最多バブル量にて効果を実感下さい。...国内...

メーカー・取り扱い企業： 昌弘貿易株式会社 関西営業本部

『低分子シロキサン除去シリコーン』※新開発

ポストキュア（二次加硫）工程が不要に。電気接点障害やブリードを大幅低減

当社はこのたび、長年培ってきた精製技術を活用し、 低分子シロキサンを含まないシリコーンの製造に成功しました。 シリコーンゴム成形後の、低分子シロキサン除去工程（ポストキュア工程）が不要。 生産工程の短縮やオイルブリードの低減に貢献します。 【特長】 ■付加架橋タイプはSi-H、Si-Viの両方の低分子シロキサンを予め除去 ■ポストキュア工程を...

メーカー・取り扱い企業： 中国精油株式会社

低分子シロキサン除去　シリコーン製品紹介

精製技術を活用！当社開発品を使用する事でポストキュア工程は不要になりま…

ット）は密閉性が高く、高温になるEUC内で使用されるシリコーン中の 低分子シロキサンがガス化して充満し、接点障害の原因になる事が 知られています。 また、シリコーンゴム成型後にポストキュア工程で再度加熱し シリコーンゴム中の低分子シロキサンを取り除く工程が必要ですが、当社 開発品を使用する事でポストキュア工程は不要になり（可能性があり）ます。 【新規シリコーン製品　ラインアップ...

メーカー・取り扱い企業： 中国精油株式会社