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PR金属から樹脂まで幅広く対応。金型や摺動部品の耐摩耗性向上に。メッキの代…
『PEKURIS COAT』は、当社独自のプラズマイオン注入成膜装置を使用し、 潤滑性に優れたDLC膜をワークに形成するコーティング加工です。 イオン注入効果により、高密着成膜が容易で、ステンレス鋼や工具鋼、 アルミ合金等にも成膜可能。また、低温での処理が可能で、 融点の低い樹脂やゴム、アルミなどにも対応しております。 DLCコーティングでお困りの方は、ぜひお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
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PR金属感、光輝感のある、めっき調仕上げが可能!要求性能に合わせた幅広い塗…
『シャインミラーV3』は、独自の手軽さで、金属感や特殊効果を 実現した金属調高意匠性塗料です。 複雑な形状品に「めっき」より明るい意匠を生み出す製品。 当製品は、1コート塗装で金属調の外観が得られ、 塗膜性能もメタリック塗料と同等の性能が得られます。 さらに上塗塗料として、それぞれの用途に合ったクリヤーを 使用することで、耐久性が向上した塗膜を形成します。 【特長】 ■...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社佑光社
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独自開発のスクリーン印刷機による高品質バンピングサービス提供!
プレソルダーサービス【バンピングサービス】は自社で開発した印刷機や精密バンプ機を 駆使し、微細なハンダバンプを基材に形成するサービスです。 クラス10,000で管理されたクリーンルーム内に装置を設置し、品質の安定した製品が提供できる環境を構築しています。 主となるプロセスは、以下の通りです。 1.はんだペー...
メーカー・取り扱い企業: 谷電機工業株式会社
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製品内基板上DRAMのリバースエンジニアリング
いて製品レベルからTEM観察による素子微細構造解析まで一貫して分析します。 外観観察からレイヤー解析、Slice&Viewを行うことで構造の全体像を把握し、FIB加工位置をナノレベルで制御し薄片形成後にメモリ部の微細構造をTEM像観察しました。...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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CPUとメインメモリの間の待ち時間は短縮され、プログラムの動作速度が向…
『DRAM』は、チップ中に形成された小さなキャパシタに電荷を貯めることで 情報を保持します。 RAMは種類によってCPUのクロックとメモリアクセスが非同期ですが、 SDRAMメモリは、同期している為、CPUとメインメモ...
メーカー・取り扱い企業: アールエスコンポーネンツ株式会社
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高速動作・低消費電力!データセンター用ストレージなどの用途で使用可能
『NRAM』はCNTを用いたメモリで、不揮発性・高耐久性・高信頼性・ 高集積性を有します。 電圧印可によりCNTが伝導パスを形成(ON)、逆電圧印可により 伝導パスが消失(OFF)。 データセンター用ストレージや高速ストレージクラス用メモリといった 用途にご使用いただけます。 【NRAMの特長】 ■不揮発性...
メーカー・取り扱い企業: 日本ゼオン株式会社
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高分解能測定と波形解析を利用してc-Siとa-Siの状態別定量が可能
半導体の製造工程において表面改質を目的としたイオン照射を行うことがあります。その中で、単結晶Si表面に不活性元素のイオンを照射することで構造の損傷が生じ、アモルファス層が形成されることが知られています。 高分解能なXPSスペクトルではc(単結晶)-Siとa(アモルファス)-Siが異なったピーク形状で検出されることを利用して、この損傷由来のa-Siをc-Siと分離して定...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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『アルマイト処理/加工』※アルマイト処理に関する技術資料を進呈
当社の高精度なアルマイト処理技術により、 アルミニウム製品へ…
株式会社豊田電研 -
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株式会社富士フィルター工業 本社