水銀吸着剤

PRガス状水銀を高効率で吸着・除去！吸着塔の設計・製作・据付工事も対応いた…

当社では、排ガス中のガス状水銀を高効率で吸着・除去する水銀吸着剤を 製作しており、従来の硫化鉛の他に硫化銅を吸着成分として用いた吸着剤を 実用化しています。 吸着剤厚さ=1500mm、塔内ガス流速=0.2m/s程度の場合、95%～98%程度の 除去率を期待することが可能。 また、活性炭と異なり、ガス中の水分で除去率が低下することがなく、 二酸化硫黄（SO2）ガス存在下でも、数年...

メーカー・取り扱い企業： 住友金属鉱山エンジニアリング株式会社

処理効率は98％以上のアンモニア分解装置！省エネルギーを実現

PR某化学メーカー等、導入実績多数！　排ガスの風量に合わせて小風量～大風量…

当製品は、NH3を使用した試験を実施されており、 その排ガスを処理する試験用アンモニア分解装置です。 処理効率は98％以上で、自社製バーナを使用しており、安全に処理します。 また高濃度のアンモニアの場合は、直接燃焼することも可能です。 ご用命の際はお気軽にご相談ください。 【特長】 ■某化学メーカー等、導入実績多数有り ■排ガスの風量に合わせて小風量～大風量まで対応可能 ■省スペース、省エネル...

メーカー・取り扱い企業： サンレー冷熱株式会社

大気圧プラズマ装置　

大気圧Plasma装置の開発・製造・販売累計1200台以上の実績（20…

株式会社イー・スクエアは、1999年08月 IC製造等で排出されるPFC（パーフロロカーボン）を除去するプラズマ除去の応用で地球環境への社会貢献を目的として設立されました。 2001年10月、大気圧プラズマ装置を利用した表面改質処理装置の開発に着手。 大気...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ装置 「Preciseシリーズ」

従来比50％の性能UP！低N2消費（約45％削減）の大気圧プラズマ装置

ガス(各種ラジカル）処理なので、不織布や繊維束内部まで処理が可能。 ■種々のガスを添加することで、撥水・還元処理やエッチング、CVD装置プラズマソースとして簡便に使用できる ■パーティクルフリー ■排ガス処理も不要 ■処理表面への物理的、電気的、熱的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型) ■半導体素子上の処理でも素子特性変化がない ■有機表面、内部へのU...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ『Precise』シリーズ　※資料進呈中

【異種接合・接着剤レス直接接合】密着性・親水性などが向上！炭素繊維を高…

ラジカル)の侵入部分全て処理ができる ■種々のガスを添加することで、撥水・還元処理やエッチング、CVD装置プラズマソースとして簡便に使用できる ■装置がコンパクト(省スペース) ■親水処理では排ガス等の後処理も不要 ■処理表面への物理的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型) ■半導体素子上の処理でも素子性能変化がない ■処理中表面へのUVダ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ装置「AP Plasma　Precise II」

ダメージフリー・パーティクルフリーの大気圧プラズマ装置

コントロールできる ■活性ガス(各種ラジカル)の侵入部分全て処理ができる ■添加ガス変更で、撥水・還元処理やエッチング、CVD装置プラズマソースとして使用できる ■装置がコンパクト(省スペース) ■排ガス等の後処理も不要 ■処理表面への電気的、物理的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型) ■半導体素子上の処理でも素子特性変化がない（完全な高周波電力遮蔽）...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ装置による繊維束状用表面改質

大気圧プラズマ装置を用いた効率的な繊維束状用表面改質方法

ガス(OHラジカル等)の侵入部分全て処理ができる ■種々のガスを添加することで、撥水・還元処理やエッチング、CVD装置プラズマソースとして簡便に使用できる ■コンパクト(省スペース) ■親水処理では排ガス等の後処理も不要 ■処理表面への物理的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型) ■半導体素子上の処理でも素子性能変化がない ■処理表面へのUVダメージがな...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア