高出力レーザ単結晶育成装置『LFZ-Compact』

お手持ちのスマートホンで、加熱部の監視および焦点、倍率、絞り調整が可能…

【その他の仕様】 ■レーザ照射光形状は、4×8mm2を標準仕様とする ■放射温度計による加熱部の1.5mmφピンポイントの直接温度測定(標準装備) 　・温度測定範囲：400～3100℃(測定温度精度：±5℃～±2%) 　・測定温度再現性：0.2℃ ■結晶条件の記録：加熱...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノサーチ

リアルタイム放射率補正型半導体プロセス温度モニター

半導体プロセス中の対象ウエハの放射率をリアルタイムに測定し補正を行うた…

ロセス・パラメータですが、今まで適切な測定方法が確立できていないために、温度以外のパラメータでプロセス状況を推測してきました。 ウエハ放射率にはロット内でばらつきがあるにも関わらず、一般の放射温度計では測定対象物の放射率をユーザーが適当に決めなければならないため、温度誤差が発生し、温度測定自体の信頼性が乏しいことがその理由でした。 弊社取扱のリアルタイム放射率補正型半導体プロセス温度...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイ・アール・システム

2,000℃を超えるカーボン加熱炉の開発・設計・試作支援

光ファイバの線引炉やガラス化炉で30年の実績がある加熱炉・加熱システム…

加熱炉の主な仕様 （１）最高温度：2,500℃ （２）ヒータ：断熱材：カーボンヒータ/カーボン系成形断熱材 （３）炉体構造：水冷ジャケット （４）炉体材質：ステンレス （５）温度制御：放射温度計（制御範囲1,700℃ー2,500℃） （６）加熱雰囲気：減圧・不活性ガス （７）真空排気：10^(-2)台以下(超高真空は対象外） （８）ガス供給系・真空排気系・冷却水系：要求機能・炉体...

メーカー・取り扱い企業： プロセスD&Tラボ 千葉