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フリーズドライ装置 凍結乾燥機 CDPF-16 16Lトラップ
化粧品原料、生物活性試料および食品など、研究、加工、試作から製造まで、…
「環境に優しい次世代不燃性フロンガス R448a を使用した新型フリーズドライ装置」 新冷媒R448aは2025年度目標値(GWP:1500)をクリアした【フロンラベルA】の冷媒です。 真空凍結乾燥機『CDPF16』はメンテナンスフリーのオイルレス真空ポンプを搭載。冷却トラップは−65℃まで冷却し、氷の最大捕捉容量は16L。試料棚温度はシリコンオイルで強制的に冷却・加温が可能で、試料棚の...
メーカー・取り扱い企業: セル・ダイアグノスティックス合同会社
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HFC冷媒、水冷式!冷媒循環温度-25℃・温媒循環温度+180℃で広範…
『マック冷温媒ユニット』は、産業、工業装置の冷却、加熱を目的とした ブラインクーラーです。 故障の少ない半密閉型冷凍機を使用しメンテナンスは簡単。 用途に応じた高効率なプレート式冷却器を使用し、加熱ヒーターを装備、 冷却加熱の完全自動制御を行います。 【特長】 ■新冷媒対応 ■-25℃~+180℃まで広範囲の温度制御を実現 ■用途に応じた高効率なプレート式冷却器を使用 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社マック
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Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…
『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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高性能なのに低消費電力量を実現!環境に配慮した新設計の高速冷却遠心機
環境にやさしい高機能高速冷却遠心機Avanti J-26Sシリーズは、高速遠心から大量遠心まで幅広く使用できる遠心機です。 エネルギー消費を低減する、エコロジー設計で、30種類のプログラムメモリ機能、12種/13種加速・減速ステップによるユーザニーズに合った遠心プログラムの設定など、高機能な1台です。 最大 6本x 1,000mLの固定角ロータJLA-8.1000はカーボンを利用した大容量かつ...
メーカー・取り扱い企業: ベックマン・コールター株式会社
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低GWP値1357/新冷媒R469A採用!超低温二元冷凍システム
二元冷凍機との組み合わせによって効率アップ!電気代や、ランニングコスト…
高効率を実現する『二元冷凍システム』についてご紹介します。 「二段圧縮システム」と比較して、ランニングコストが安く、 安定した超低温運転が可能となります。 また、高温側と低温側でそれぞれ温度特性の適した冷媒を使用できるため、省エネを実現します。 【特長】 ■無風タイプとクーラータイプの2方法で取り扱いあり ■二元冷凍機との組み合わせによって効率アップ 【無風式】 ■庫...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カノウ冷機
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分級機構を内蔵した新発想の衝撃式粉砕機
【ネアミル 衝撃式分級機内蔵型粉砕機】 ネアミルは新しい着想のもとに開発された、分級機を内蔵した衝撃式微粉砕機です。モース硬度1~3(タルク・黒鉛~石灰石)の原料に適しています。 粉砕室のサイズ変更や豊富なパラメータ設定によって、幅広いニーズに対応します。 【ネアミル パッケージシステム NEA-4.8】 大型生産機への確実なスケールアップ性能を有する小型機を「オールインワン・パッケー...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ダルトン
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少ロット多品種生産に!トンネルフリーザーの技術を活かしたバッチ式フリー…
当製品は、商品を台車に積載させたままフリーザーに搬入し冷却、凍結を行う バッチタイプ運用のフリーザーです。 据付は“掘り込み式”をはじめ、“スロープ式”や“リフター式”、“親子台車式”が可能。 フリーザー前後の工程がバッチ式の場合や商品が少量、多品種に適しています。 また、新システムでは自動フラッシング機能搭載により発泡器系統の固化防止に 配慮しており、ポンプはトップランナー対応...
メーカー・取り扱い企業: タカハシガリレイ株式会社 本社
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Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…
『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…
『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、 高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本の...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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