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洗浄後のポンプ内残留菌が殆どゼロ!サニタリーダイアフラムポンプ
PR【FOOMA JAPAN出展】飲料・食品用に!日々の分解/洗浄を簡単に…
中央理化が取り扱う、サニタリーポンプ『ワンナットポンプ』は、食品・飲料・化粧品・医薬品等に適した、エアー駆動式ダイアフラムポンプです。 日々の分解・洗浄・組み付けの時間を短縮します! CIP洗浄可能で、高温スチーム対応!0.7MPaまでの耐圧! 各パーツは死角が無く、洗い残しや汚れを見逃すことなく洗浄可能。 洗浄後の残留菌がゼロになった!とお声をいただいており、 金属同士が摺動するパーツが無...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社中央理化 本社
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PR切らずにほぐす 高粘度にも対応 CNT分散に好適な実験機をご提案~切換…
最新電池・最新電子デバイス分野でCNTは実用化段階に入りました。 ビーズミル機や超音波ホモジナイザーでは繊維長を維持した精緻な分散は困難。 ユーティリティ、スケールアップの観点からCNT分散では 超高圧ホモジナイザー一択となりつつあります。 《下記のような課題はございませんか》 ・アプリケーションに応じた適したの分散状態にコントロールしたい ・できるだけ切らずにほぐしたい ・詰まりにくく、利便...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社常光 ナノマテリオ・エンジニアリング事業部
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小型超高精度現像装置 MPD40
【工程】投入→現像→液切→リンス→液切→循環水洗→直水洗→絞り→取出し【基板サイズ】Max.W400×L500mm 厚み0.4〜2.0mm【ノズル揺動】首振揺動【装置サイズ】W1530×L2830×H1860mm ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDの現像が可能...◆小型機でありながら驚異的な面精度で現像が可能 ◆揺動速度の最適値は搬送速度に自動追従式 ◆...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社二宮システム
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研究開発用小型現像装置 HPD40
【工程】投入→現像→液切→水洗1→水洗2→絞り→取出し【基板サイズ】Max.W400×L500mm 厚み0.4〜2.0mm【ノズル揺動】水平揺動【装置サイズ】W1420×L1950×H1645mm ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDの現像が可能 ...◆ファインパターン対応のノズル配置により高精度な現像が可能 ◆独立圧調により高精度な現像が可能(上スプレー...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社二宮システム
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小型薄板用現像装置 FBD40
【工程】投入→エアーナイフ→現像→エアーナイフ→循環水洗→直水洗→エアーナイフ→取出し【基板サイズ】Min.W50×L50mm 厚み0.03〜2.0mm【ノズル揺動】水平揺動【装置サイズ】W1445×L2010×H1230mm ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDの現像が可能 ...◆独自の搬送方式により0.03tのFPCが治具なしで枚葉搬送が可能 ◆極薄基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社二宮システム
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0.03tのFPCが治具なしで枚葉搬送可能!小型薄板用剥離装置
【工程】投入→エアーナイフ→剥離→エアーナイフ→循環水洗→直水洗→エアーナイフ→取出し【基板サイズ】Min.W50×L50mm 厚み0.03〜2.0mm【ノズル揺動】なし【装置サイズ】W1445×L2010×H1230mm...◆独自の搬送方式により0.03tのFPCが治具なしで枚葉搬送が可能 ◆薄板基板でも搬送ローラーによるダメージがない ◆薄板用液切り方式によりワークの折れ、シワがない ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社二宮システム
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研究開発用小型現像機 SPD40
【工程】投入→現像→液切→循環水洗→直水洗→絞り→取出し【基板サイズ】Max.W400×L500mm 厚み0.4〜2.0mm【ノズル揺動】水平揺動【装置サイズ】W1300×L1590×H1215mm ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDの現像が可能 ...◆水平揺動によるファインパターン対応のノズル配置により高精度な現像が可能 ◆狭いスペースでも設置可能 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社二宮システム
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研究開発用小型剥離機 SPS40
【工程】投入→剥離→液切→循環水洗→直水洗→絞り→取出し【基板サイズ】Max.W400×L500mm 厚み0.4〜2.0mm【ノズル揺動】なし【装置サイズ】W1300×L1590×H1215mm ...◆狭いスペースでも設置可能 ◆使いやすい機能とすっきりしたデザイン ◆お手頃価格のエントリーモデル ◆標準機のため短納期 ◆仕様に合わせたカスタマイズが可能...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社二宮システム
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