• 真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』 製品画像

    真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

    PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

    ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

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    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • 最新!熱設備の脱炭素・低炭素化技術のご紹介【展示会出展】 製品画像

    最新!熱設備の脱炭素・低炭素化技術のご紹介【展示会出展】

    PR水素ガスバーナー最新ラインナップや低炭素設備をご紹介!【サーマルテクノ…

    【展示会情報】 工業炉と関連機器の製品・技術展示会およびセミナー発表と講演会で構成する関西からの情報発信イベント” サーマルテクノロジー2024に出展いたします。 日時:2024年10月10日(木)11日(金)10:00 ~ 17:00 会場:グランフロント大阪 北館 B2F 【最新!水素ガスバーナーラインナップ】 二酸化炭素を排出しない水素燃焼!SHOEIでは実績のある自社製バー...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社正英製作所 本社、東京支店、名古屋営業所、大阪支店、広島支店、九州支店

  • 液体・ガス燃料溶射システム『Met-PCC(HVOF)』 製品画像

    液体・ガス燃料溶射システム『Met-PCC(HVOF)』

    コンパクトで操作も簡単!高い密着力と気孔率の低い皮膜を実現します

    【その他の特長】 ■高い硬度で低水準の酸化の皮膜 ■タッチパネル付きPC制御 ■キーボード制御のオプション ■無限の製法とパラメーターの記録 ■水素燃料と比較して低いランニングコスト ■高い密着力と気孔率の低い皮膜 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社澤村溶射センター

  • プラズマ溶射システム『Met-PCC(PLAS)』 製品画像

    プラズマ溶射システム『Met-PCC(PLAS)』

    従来のプラズマとHVOF装置の簡潔な制御と操作者インターフェイスの特長…

    完全に連続した起動・運転・停止 ■真っ直ぐ・斜角・延長のさまざまなオプション ■冷却水・ガスなしの運転を防止するインターロック安全装置 ■アルゴンまたは窒素の一時ガスと窒素またはヘリウムまたは水素の二次ガス ■無限の製法とパラメーターの記録 ■他のパプダー供給機/動力源を接続することが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社澤村溶射センター

  • 樹脂溶射装置『PG550』 製品画像

    樹脂溶射装置『PG550』

    取扱操作が容易!様々な種類のプラスチック材質が溶射可能、歩留性も向上!

    『PG550』は、プロパン、アセチレン、水素、天然ガスを使用できる 樹脂溶射装置です。 使用するプラスチック材料は、プラスチック化用の物質や溶剤等の 添加物を含まず、純粋な材料の形で用います。よく選別された粉末粒度の ものを用い、...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社澤村溶射センター

  • 高速フレーム溶射装置『Met-PCC(HVOF)』 製品画像

    高速フレーム溶射装置『Met-PCC(HVOF)』

    インテルデュアルアトムプロセッサーを搭載!操作性・統合性・伝達性に優れ…

    【その他の特長】 ■高い硬度で低水準の酸化の皮膜 ■タッチパネル付きPC制御 ■キーボード制御のオプション ■無限の製法とパラメーターの記録 ■水素燃料と比較して低いランニングコスト ■高い密着力と気孔率の低い皮膜 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社澤村溶射センター

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