• 真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』 製品画像

    真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

    PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

    ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

    • gisan.png
    • images2021040516155314.png
    • screen2.jpg
    • images2021052016285434.gif

    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • オートクレーブ、高圧反応装置温度コントローラ(制御盤)『TCR』 製品画像

    オートクレーブ、高圧反応装置温度コントローラ(制御盤)『TCR』

    オートクレーブや希望仕様からフローチャートに沿って最適な温調ユニットを…

    【温度コントローラ】『TCRシリーズ』は浪岡製作所のオートクレーブに使用出来る温度調節ユニットです。 ■制御方式:サイリスタまたはSSR ■制御タイプ:定値制御またはプログラム制御 ■サンプリング周期:10ms~500ms(高速から高分解能) ■測定精度:±0.1%F.S.~±0.3%F.S.まで(高精度から標準精度) ■制御方法:内温制御/外温制御/カスケード制御/マスタスレーブ制御 ...

    メーカー・取り扱い企業: 浪岡製作所

1〜1 件 / 全 1 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • イプロス20240902_2 (2).jpg
  • 3校_0917_jilc_300_300_2000002.jpg