• Enapter社「AEM式水電解水素製造装置」 製品画像

    Enapter社「AEM式水電解水素製造装置」

    PRAEM(アニオン交換膜)式水電解を採用。アルカリ水電解・PEM水電解の…

    【AEM式水電解水素製造装置 3つの特長】 1.高圧・高純度の水素を生成   99.999%純度の水素を3.5MPaGの高圧で生成可能。電極反応はアルカリ   水電解と同じですが、腐食性の高い濃アルカリ液を使用しません。セ   ル構造はPEM水電解と同様、膜電極接合体構造で高速応答性、広い運   転範囲、間欠運転を許容する等の優れた特性を持ちます。 2.貴金属不要で低コストを実現  ...

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    メーカー・取り扱い企業: 三國機械工業株式会社

  • 電子機器メーカーの遠隔監視システム(4G回線)の導入事例集を進呈 製品画像

    電子機器メーカーの遠隔監視システム(4G回線)の導入事例集を進呈

    PR設備の故障・異常時の通報やコインパーキングの情報収集など4G回線を活用…

    当資料では、4G回線を使用した遠隔監視・遠隔制御クラウドサービス「MOS-B(モスビー)」と 設備や機器の故障監視や漏電の監視に好適な接点/漏電監視装置「T-Scope4D」や、 接点状態、パルス入力値、アナログ入力値を監視/計測できる遠隔監視装置「DMA-T2X」、 LTEユビキタスモジュール搭載IoTゲートウェイ「DMA-ESL」を組み合わせた 様々な遠隔監視システムの事例を概要・システム構成...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハネロン

  • CCPプラズマエッチング装置『CCP-T60M/B2M』 製品画像

    CCPプラズマエッチング装置『CCP-T60M/B2M』

    高精度かつ高信頼性の酸化膜微細加工!プロセスガスからラジカルを選択的に…

    『CCP-T60M/B2M』は、高精度かつ高信頼性の酸化膜微細加工を実現する 平行平板型エッチング装置です。 プロセスガスからラジカルを選択的に生成し、低電子温度、高密度プラズマが 得られる60MHzパワーを上部電極に印加。 また、常に適切なエッチングプロセス条件が維持されるシーケンスプログラムを 内蔵しています。 【特長】 ■平行平板型エッチング装置 ■高精度かつ高信...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社片桐エンジニアリング

  • 【エッチング装置/アッシング装置部品の保護膜に】Y5O4 F7膜 製品画像

    【エッチング装置/アッシング装置部品の保護膜に】Y5O4 F7膜

    Y5O4 F7膜は表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージン…

    半導体製造工程の一つであるドライエッチングプロセスにおいてウェハ処理を行うと、プロセスガス自体からの生成物やエッチング時の副生成物がチャンバ内壁やチャンバ内のパーツ表面に付着するといった現象が発生すします。これら堆積物の付着によってプロセスの初期と処理後のチャンバ内表面状態が変化することにより、プロセス条件の変動が発生します。このようなプロセス条件の変動を緩和するため、従来技術では製品処理前に類似...

    メーカー・取り扱い企業: つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

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