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PRウルトラクリーンを創造!製造工程、分析工程に革新をもたらします
『0.2%BeCu』は、熱伝導率が良く、熱輻射率が低い、アウトガスを抑制する 真空構造材です。 用途としては極・超高真空環境が必要な真空チャンバー、高精度分析装置の分析室の素材、 質量分析計のイオンソースの素材、装置の熱源付近のアウトガスを嫌う部分、 低温化が必要な部分、冷却設備を簡略化して小型化が必要な部分、 到達真空の時間短縮を行い高スループット化が必要な装置等に適切な真空構造材として使用で...
メーカー・取り扱い企業: 東京電子株式会社
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真空脱脂焼結炉『DSシリーズ』※最大1000個の熱処理をいつでも
PR真空脱脂と焼結を一つのサイクルで行うことが可能な真空脱脂焼結炉!時間と…
真空脱脂焼結炉『DSシリーズ』は、粉末冶金の発展に貢献する 省スペースかつ炉内のクリーン化とサイクル間のメンテナンス時間を大幅に短縮できる真空脱脂焼結炉です。 多数の販売実績を持ち、定評ある標準規格炉「TITAN」のプラットフォームを採用! また、短時間で据付設置できるスキッドマウントシステムを採用しております。 【メリット】 ■処理時間の短縮 ■プロセス品質の向上 ■汚染の最小化 ■使いやす...
メーカー・取り扱い企業: Ipsen株式会社
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プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…
要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa~数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の要求仕様に必要な機器の全てを使用し装置製作を...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社
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プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…
要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa~数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の要求仕様に必要な機器の全てを使用し装置製作を...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社
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プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…
要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa~数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の要求仕様に必要な機器の全てを使用し装置製作を...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社
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プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…
要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa~数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の要求仕様に必要な機器の全てを使用し装置製作を...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社
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プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…
要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa~数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の要求仕様に必要な機器の全てを使用し装置製作を...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社
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プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…
要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa~数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の要求仕様に必要な機器の全てを使用し装置製作を...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社
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