真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

PRギ酸・水素還元両対応！最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気（ギ酸または水素）、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】

PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…

本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

コンボ ”S”タイプ・”L”タイプ

回転体へ電気とエアーを同時に供給できないか？ そのご要望にお応えしま…

G1/2”から選択可能 中空穴：φ30 ハウジング材質：アルマイト表面処理アルミニウム ローター材質：ステンレススチール 対応流体：不燃性圧縮ガス（ドライエアー、オイルエアー、不活性ガス）、真空 最高使用圧力：1.0MPa 最高使用真空度：20kPa abs 最高使用流体温度：50℃ 最高周辺温度：70℃ 最高回転速度：130min-1（流路数・圧力条件により変動します。） ス...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社デュブリン・ジャパン・リミテッド 本社

丸リップタイプ　ターコン（R）バリシールJ65P

U字型のシールジャケットとV 字型の耐腐食性スプリングで構成。

丸リップは、シールリップ部が対称であることから、ガス、真空の用途において潤滑用グリスをシールリップに保持でき、特に優れたシール性を示します。...

メーカー・取り扱い企業： 日本トレルボルグ シーリング ソリューションズ株式会社

コンボシリーズ：エアー・不活性ガス用

回転体へ電気とエアーを同時に供給できないか？ そのご要望にお応えしま…

/2”から選択可能 中空穴：∅30mm ハウジング材質：アルマイト表面処理アルミニウム ローター材質：ステンレススチール 対応流体：不燃性圧縮ガス（ドライエアー、オイルエアー、不活性ガス）、真空 最高使用圧力：1.0MPa 最高使用真空度：20kPa abs 最高使用流体温度：50℃ 最高周辺温度：70℃ 最高回転速度：130rpm（流路数・圧力条件により変動します） スリップ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社デュブリン・ジャパン・リミテッド 本社