フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】

PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…

本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】

PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…

本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

産業・研究開発分野向け実験室「近赤外線ヒーター加熱テスト」

近赤外線ヒーターの性能がわかる実験室へご招待！加熱・乾燥・接合・溶着・…

はワークを社外に送付出来ない場合でも貸出機による評価が可能です。 技術的に不安がある方は、実験室での評価後にデモ機によるテストをおすすめします。 【特長】 ■加熱・乾燥・接合・溶着・硬化～真空加熱まで試験可能 ■産業・研究開発分野で採用実績あり ※詳しくはお問い合わせいただくか、PDFをダウンロードしてご覧ください。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイベック

近赤外線ヒーター（ヒートビームシリーズ）

ハロゲンランプヒーターより放射される光（近赤外線）を照射し、高温・急速…

。 熱源にはハロゲンランプを使用する事により、最大1200℃までの加熱と2mm～3mm程度の集光が可能です。 ハロゲンランプから照射される輻射熱を利用しているので、非接触でクリーンな加熱ができ、真空中や不活性ガス中での加熱やガラス越しでの加熱が可能です。 温度調節には専用コントローラを使用することにより、ヒーター出力を一定に保ち、立ち上がり時間が速く安定した制御が行えます。 【特長】 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイベック

よくあるご質問【近赤外線ヒーター】

お客さまから寄せられる赤外線加熱、近赤外線ヒーターに関するご質問をまと…

【ご質問内容】 ・近赤外線ヒーターと加熱対象物の距離はどの程度に設定したらいいでしょうか？ ・防爆構造の赤外線ヒーターはありますか？ ・近赤外線ヒーターは真空雰囲気下で使うことはできますか？ ・近赤外線ヒーターを使う上での注意点はありますか？ ・近赤外線ヒーターの寿命は？ などなど、お客さまと新たな加熱プロセスを発見したり、改善提案をし...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイベック

フィルムの熱処理に　近赤外線ヒーター（ヒートビームシリーズ）

高い電力密度、高効率反射鏡により高速加熱が可能な近赤外線ヒーターです。…

を施し、熱効率が高くコンパクトな設計。 熱源にはハロゲンランプを使用し、2mm～3mm程度の集光が可能です。 ハロゲンランプから照射される輻射熱を利用しているので、非接触でクリーンな加熱ができ、真空中や不活性ガス中での加熱やガラス越しでの加熱が可能です。 温度調節には専用コントローラを使用することにより、1～2秒と立ち上がり時間が速く安定した制御が行えます。 【特長】 ・加熱温度範囲...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイベック

近赤外線ヒーター　線集光タイプＨＹＬシリーズ(水冷式)

ハロゲンランプヒーターより放射される光（近赤外線）を線状に照射し、高温…

。 熱源にはハロゲンランプを使用する事により、最大1200℃までの加熱と2mm～3mm程度の集光が可能です。 ハロゲンランプから照射される輻射熱を利用しているので、非接触でクリーンな加熱ができ、真空中や不活性ガス中での加熱やガラス越しでの加熱が可能です。 温度調節には専用コントローラを使用することにより、ヒーター出力を一定に保ち、立ち上がり時間が速く安定した制御が行えます。 【特長】 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイベック

近赤外線ヒーター平行照射タイプＨＹＰシリーズ（水冷式)

ハロゲンランプヒーターより放射される光（近赤外線）を照射し、高温・急速…

効率が高くコンパクトな設計。 熱源にはハロゲンランプを使用する事により、最大1200℃までの加熱が可能です。 ハロゲンランプから照射される輻射熱を利用しているので、非接触でクリーンな加熱ができ、真空中や不活性ガス中での加熱やガラス越しでの加熱が可能です。 温度調節には専用コントローラを使用することにより、ヒーター出力を一定に保ち、立ち上がり時間が速く安定した制御が行えます。 【特長】 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイベック