真空ホットプレートチャンバー 「PH-224D型」

金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での加熱プロセス、材…

真空ホットプレートチャンバー 「PH-224D型」は、金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での加熱プロセス、材料評価に最適です。 【仕様カスタマイズ】 ○温度制御範囲　室温～200℃ ○プレートサイズ　200×200mm ○圧力範囲　-100KPa（真空）~0.02MPa（N2ガス充填時） 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...【特徴...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

半自動真空ホットプレートチャンバー 「PH-224S-42型」

小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。

半自動真空ホットプレートチャンバー 「PH-224S-42型」は、小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 ウエハ加熱バッチ炉として、6”ウエハ3枚、8”ウエハ２枚の処理能力があります。 【特徴】 ○最高温度　300℃ 対応 ○温度コントローラーは、専用タイプにより 　プロセスの確認に必要な...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

加熱工程ウエハホットチャック　PH050

最高温度300℃対応！小型ウエハ・ガラス基板用ホットプレート。

加熱工程ウエハホットチャック　PH050は小型ウエハ・ガラス基板用ホットプレートです。ウエハ、ガラス基板など極薄のワークを均一に加熱します。ワークは真空吸着により固定いたしますのでワークに固定によるストレスを与えません。プレートはアルミ合金、黒アルマイト処理、レザーマーキングによるガイド表示、MSAデジタル温度コントローラーにて精密温度制御が可能です。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」

最高温度400℃！小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。

半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」は、加熱源にセラミックヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。 【特徴】 ○空冷にて、最高温度400℃対応 ○小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適 ○観察窓により、ワークの状態が視認できる...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

加熱工程ウエハホットチャック　PH070

最高温度300℃対応！小型ウエハ・ガラス基板用ホットプレート。

加熱工程ウエハホットチャック　PH070は小型ウエハ・ガラス基板用ホットプレートです。ウエハ、ガラス基板など極薄のワークを均一に加熱します。ワークは真空吸着により固定いたしますのでワークに固定によるストレスを与えません。プレートはアルミ合金、黒アルマイト処理、レザーマーキングによるガイド表示、MSAデジタル温度コントローラーにて精密温度制御が可能です。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー