交互積層法：ウエットプロセスでの反射防止膜

真空ドライプロセスよりコストメリットの優れたウエットプロセスでの反射防…

常温・常圧でコート可能なウエットプロセス「交互積層法」での反射防止成膜を是非ご検討下さい。 反射防止成膜プロセスの主流である真空蒸着などのドライプロセスは、真空条件を必要とするためコスト面での負担が大きいプロセスです。 一方、ウエットプロセスの「交互積層法」では、常温・常圧下で2種類の溶液（カチオン・アニオン）に基材を交互に浸漬させて積層する手法のため真空条件を必要としない手法です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エコートプレシジョン

最先端コーター『ＨＩＴ-IIIＳ』

塗布材料が最大１／３０に削減可能！成膜を効率よく、最小限のコストで行え…

『最先端コーターＨＩＴ-IIIＳ』は、塗布成膜を従来よりも圧倒的な効率で行える装置。 塗布材料を従来のスプレー方式の１／２、スピン方式の１／３０以下に削減可能です。 また、常圧環境で成膜を行えるので、真空環境設備を整える必要がありません。 トータルコストの圧縮に貢献できる最先端コーターです。 【特長】 ■塗布材料や真空設備のコストを大幅削減 ■弱酸性、弱アルカリ性、各種有機溶剤...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒットコーポレーション