『信頼と満足をお届けします！東洋ステンレス化工の真空チャンバー』

PRお客様とのコミュニケーションを大切にしており、遠方であっても可能な限り…

弊社では、長年培ってきた様々な経験を活かし、ステンレス製真空チャンバーを製作しています。 円筒形、角形はもちろんフルジャケットタイプや多角形型など、お客様の用途や仕様に合わせて製作しています。 様々な加工技術を駆使し、真空炉や真空タンク、真空配管、さらには船舶向けプレハブ配管なども幅広く手掛けています。 また、自社ブランド『TSクランプ』を用いた真空チャンバーも多数制作しております。...

メーカー・取り扱い企業： 東洋ステンレス化工株式会社

焼成・焼結をはじめ、焼鈍・窒化など用途に応じた熱処理炉を展開

PR規格品が多く設置場所や処理量が制限される真空炉もオーダーメイドで製作し…

様々な分野における工業製品の製造過程には必ずといってよいほど加熱の工程が含まれています。 熱処理設備は用途により多種多様です。 サンファーネスでは、MIM専用焼結炉や粉体熱処理炉ロータリーキルンも手掛けています。 線材、板材、大小さまざまな形状のワークにも対応します。 非鉄金属など専門性の高い処理が要求される材料にも対応します。 ワーク、処理温度、周辺環境などを考慮し適した設計でご提案します。...

メーカー・取り扱い企業： サンファーネス株式会社

Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、 　高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本の...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ12対応　高速アニール加熱システム VPO-1000-300

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社