長寿命水殺菌ランプ

PR電源のON/OFFに強い水殺菌ランプ。15,000hの長寿命。

冷陰極の長寿命水殺菌ランプ。 冷陰極ランプは点滅に強く、電源のON/OFFによる寿命の減少がほとんどありません。 CCFLランプのコンパクトな特徴を活かし、石英ガラス管内にランプとインバータを内蔵。１つのアダプターに対し省スペースで複数のランプを連結し点灯することが可能です。 波長：254nm 寿命：15,000h 詳しくはお問い合わせください。...冷陰極蛍光ランプ(CCFL)...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社納屋商事

受託加工サービス

PR切断をはじめ、ポリッシング、積層などの工程をご紹介！当社の受託加工のご…

脆性材の端面ポリッシング、および、端面塗布の受託加工をご案内 ショーダテクトロンでは、脆性材加工用機械装置の技術を活かして、矩形、円形、その他形状の硝材の端面ポリッシング加工、および自由形状の端面樹脂塗布の加工を受託致します。また、端面研磨に関しましては、協力工場を通して、インゴットご支給からのスライス、芯出し、端面研磨といった一貫した加工も承ります。 試作品や小ロットの加工をお考えでしたら、...

メーカー・取り扱い企業： ショーダテクトロン株式会社

端面鏡面加工装置

スラリー不使用　濾過水、純水を媒体として鏡面研磨、粗研磨から洗浄まで行…

磨、粗研磨、洗浄等を行う研磨装置 ■用途例 　　鏡面仕上げ加工・鏡面仕上げ加工・端面異物洗浄 ■対象物 　・薄い材料150～200μに好適 　・各種ウェハ：化合物、酸化物、ガラス、石英、シリコン、セラミック 対応 実機での評価・確認後に装置採用のご検討をお願いします。 オリフラ対応(Vノッチは出来ません) 自動化・仕様打合せによる特注設計製作に対応します。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液…

葉洗浄装置です。 強固着物の除去と薬液スプレーによる金属汚染除去が可能で、オプションで端面同時のスクラブ洗浄も対応できます。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ4”　厚みについては応相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

シングルチャンバー型「ウェハ用多目的スピン・スクラブ洗浄装置」

1チャンバーで異物・金属汚染を取り除く省スペースな洗浄装置！洗浄方法の…

　・　界面活性剤・純粋スクラブ洗浄 　・　薬液スプレー 　・　メガソニックスポットシャワー 　・　スピン乾燥 ＜　洗浄対象物　＞ 　各種ウェハ 　・　Si(シリコン） 　・　石英 　・　酸化物 　・　化合物等 ＜　対応ウエハ口径　＞ 　・　φ2”～φ4” 　・　φ6”～φ8”　 ＜　その他　＞　　　　　　 　単機能のスクラブ洗浄装置、薬液の...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

省スペース型「スピン洗浄装置（多目的洗浄タイプ）」

１チャンバー型多目的スクラブ洗浄。１チャンバーで異物、金属汚染を取り除…

ース型のためスペースの限られた場所にも適しています。 単機能のスクラブ洗浄装置についてはご相談ください。 【特長】 ■洗浄・リンス・乾燥まで1か所で行える ■被洗浄対象ウエハ：シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ4”　φ6”～φ8” ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

小径ウェハ（LT・SiC等2〜6インチ）両面同時スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れずに搬送・乾燥が可能なスクラブ洗浄装置！独自機構の表…

によるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置（研究開発用）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

によるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（研究開発用）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

によるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（量産型）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

によるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）