リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

フッ素樹脂PFA・静電気防止タイプ熱収縮チューブ　GRC-PB

PR静電気を帯びにくくなると同時に帯電量を軽減させる効果も期待出来ます

・静電防止の特性 静電気を帯びやすいフッ素樹脂PFAカーボンを添加する事により、静電気が問題になる用途にもお使い頂けます。静電気を帯びにくくなると同時にロールに接触する製品(例えば紙・フィルム等)の帯電量を軽減させる効果も期待出来ます。 ≪特長≫ フッ素樹脂PFAのもつ非粘着特性を損なうことなく、静電気防止効果を付与しました。 1. 静電防止特性 2. 非粘着性（汚れがつきに...

メーカー・取り扱い企業： グンゼ株式会社 エンプラ事業部

POMプラばね(ポリアセタール)

耐薬品・耐熱・絶縁・非磁・耐酸・耐アルカリ・耐油・耐溶剤・断熱・リサイ…

医学系磁気装置での使用実績あり。 耐薬品性を求めない用途で使用できます。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社プラばね

マイクロ波イオン・ラジカル源　IMIS-211Q

マイクロ波イオン・ラジカル源　IMIS-211Q

石英放電管タイプでチャンバー内突き出し型の 有磁場型マイクロ波励起イオン・ラジカル源 【特徴】 ○プラズマ室は石英製で、金属汚染の少ないイオン・ラジカルが得られる ○特殊なアンテナ構造、磁気回路のため漏洩磁場が少ない ○完全金属シール構造により 　MBE装置等、各種超高真空装置に使用可能 ○取付が容易な空冷式 ○加速用高圧電源（オプション）の使用により 　イオン加速が可能...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社