• リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • フッ素樹脂PFA・静電気防止タイプ熱収縮チューブ GRC-PB 製品画像

    フッ素樹脂PFA・静電気防止タイプ熱収縮チューブ GRC-PB

    PR静電気を帯びにくくなると同時に帯電量を軽減させる効果も期待出来ます

    ・静電防止の特性 静電気を帯びやすいフッ素樹脂PFAカーボンを添加する事により、静電気が問題になる用途にもお使い頂けます。静電気を帯びにくくなると同時にロールに接触する製品(例えば紙・フィルム等)の帯電量を軽減させる効果も期待出来ます。 ≪特長≫ フッ素樹脂PFAのもつ非粘着特性を損なうことなく、静電気防止効果を付与しました。 1. 静電防止特性 2. 非粘着性(汚れがつきに...

    メーカー・取り扱い企業: グンゼ株式会社 エンプラ事業部

  • 磁気浮上型インテグレーテッドポンプ BPS-i100 製品画像

    磁気浮上型インテグレーテッドポンプ BPS-i100

    Compact & Resonable for Highend Pro…

    モータ・コントローラ一体型BPS-i100ポンプシステムは消耗品となる軸受やシールを使わない革新的な遠心ポンプです。 磁気浮上の原理に基づいて、ポンプのインペラは密閉されたポンプケーシングの中で非接触に浮上し、モータの回転磁界によって駆動されます。 インペラとポンプケーシングは、共に耐薬液性の高純度フッ素樹脂で造られ...

    メーカー・取り扱い企業: Levitronix Japan株式会社

  • 高温用磁気浮上型ベアリングレスポンプ BPS-4H 製品画像

    高温用磁気浮上型ベアリングレスポンプ BPS-4H

    Better Pumps for Better Yields !

    BPS-4Hポンプシステムは消耗品となる軸受やシールを使わない革新的な遠心ポンプです。 磁気浮上の原理に基づいて、ポンプのインペラは密閉されたポンプケーシングの中で非接触に浮上し、モータの回転磁界によって駆動されます。 インペラとポンプケーシングは、共に耐薬液性の高純度フッ素樹脂で造ら...

    メーカー・取り扱い企業: Levitronix Japan株式会社

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