一酸化ケイ素（SiO）塊・粉末

PRサブミクロンから塊状まで幅広くカスタマイズ可能なSiOパウダー。LiB…

当社は、リチウムイオン電池（LiB）負極材料などとして活用可能な 『一酸化ケイ素（SiO）』を提供しています。 粉末状（1～100μm）、粒状（1～5mm）、塊状（50～200mm）に対応し、 サブミクロンレベルまでカスタマイズ可能です。 1μmの粉末でSiO純度99.8％、5μmの粉末でSiO純度99.9％などの製品事例があります。 【特長】 ■製造方法：結晶化学気相成長法 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

溶射装置『HP/HVOF JP5000/JP8000』

PR比類のない高品質のコーティング、高い皮膜密度と密着力！均一な高い硬度、…

『HP/HVOF Spray System JP-5000/JP-8000』は、高速フレーム溶射法の採用により、 高品質のコーティングのための基本法則「高燃焼圧力・高ガス流速・高速粒子」の溶射を実現した製品です。 粉末材料を溶融させながら基材に衝突させ、圧縮応力により皮膜を形成するため、 高い密度と密着力、硬度を持ち、酸化物含有量を抑えた皮膜を形成可能。 印刷ロールの耐食性向上や搬送スクリュー...

メーカー・取り扱い企業： ユテクジャパン株式会社

プラズマガン『SG-100』

緻密で溶射効率のよい皮膜が得られる！新設計のノズル電極により長寿命化を…

【プラズマ溶射システムの仕様】 ＜プラズマガン「SG-100」＞ ■出力：40KW サブソニック、マッハ1、マッハ2、80KW マッハ2 ■粉末供給方式：アノード内部供給方式 ＜コントロールコンソール「3710/3620」＞ ■使用ガス：Ar、Ar+He、Ar+H2、Ar+N2 ■制御範囲 　・電流：150～1200A 　・ガ...

メーカー・取り扱い企業： ユテクジャパン株式会社