• 溶射装置『HP/HVOF JP5000/JP8000』 製品画像

    溶射装置『HP/HVOF JP5000/JP8000』

    PR比類のない高品質のコーティング、高い皮膜密度と密着力!均一な高い硬度、…

    『HP/HVOF Spray System JP-5000/JP-8000』は、高速フレーム溶射法の採用により、 高品質のコーティングのための基本法則「高燃焼圧力・高ガス流速・高速粒子」の溶射を実現した製品です。 粉末材料を溶融させながら基材に衝突させ、圧縮応力により皮膜を形成するため、 高い密度と密着力、硬度を持ち、酸化物含有量を抑えた皮膜を形成可能。 印刷ロールの耐食性向上や搬送スクリュー...

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    メーカー・取り扱い企業: ユテクジャパン株式会社

  • 電動アクチュエータ向けダストシールソフトワイパBIHO・BIHI 製品画像

    電動アクチュエータ向けダストシールソフトワイパBIHO・BIHI

    PR繊維系ダスト、微粉末ダストの侵入防止に好適

    ソフトワイパは、シリンダのロッド部/ピストン部および軸受部等で従来のゴムやプラスチック製ダストシール/コンタミシールでは除去困難であった、髪の毛・繊維屑・微細鉄粉/粉体・紙粉など付着性ダストの侵入を防止する繊維複合体ダストワイパです。 また、グリースリング(潤滑供給システム)としての用途にも優れた機能を発揮します。 ※下記外部リンクより、2D CADデータのダウンロードが可能です。ご利用下...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社阪上製作所

  • スーパーCMC半導体用ヒートシンク 製品画像

    スーパーCMC半導体用ヒートシンク

    銅とモリブデンのクラッド材による高熱伝導、低熱膨張の半導体用ヒートシン…

    当社では、独自開発した『S-CMC』を使用した半導体用ヒートシンクを ご提供しております。 『S-CMC』は、Mo箔とCu箔の多層フラット板で構成されており、 Mo粉末品よりも高熱伝導、低熱膨張に優れた低熱膨張のクラッド材です。 各種半導体分野への適用が可能ですが、4G/5G通信で用いられるGAN素子の ヒートシンクとして特に適しており、5G通信用の携帯電...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社FJコンポジット

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