一酸化ケイ素（SiO）塊・粉末

PRサブミクロンから塊状まで幅広くカスタマイズ可能なSiOパウダー。LiB…

当社は、リチウムイオン電池（LiB）負極材料などとして活用可能な 『一酸化ケイ素（SiO）』を提供しています。 粉末状（1～100μm）、粒状（1～5mm）、塊状（50～200mm）に対応し、 サブミクロンレベルまでカスタマイズ可能です。 1μmの粉末でSiO純度99.8％、5μmの粉末でSiO純度99.9％などの製品事例があります。 【特長】 ■製造方法：結晶化学気相成長法 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

溶射装置『HP/HVOF JP5000/JP8000』

PR比類のない高品質のコーティング、高い皮膜密度と密着力！均一な高い硬度、…

『HP/HVOF Spray System JP-5000/JP-8000』は、高速フレーム溶射法の採用により、 高品質のコーティングのための基本法則「高燃焼圧力・高ガス流速・高速粒子」の溶射を実現した製品です。 粉末材料を溶融させながら基材に衝突させ、圧縮応力により皮膜を形成するため、 高い密度と密着力、硬度を持ち、酸化物含有量を抑えた皮膜を形成可能。 印刷ロールの耐食性向上や搬送スクリュー...

メーカー・取り扱い企業： ユテクジャパン株式会社

溶射システム　 HVAF コントロールシステム

膨大な溶射レシピの搭載！シンプルで、タッチスクリーンを使ってのモニタリ…

【その他の特長】 ■Spray View、ライブビデオ（左画面上、Option） ■連動された自動秤量粉末供給 ■連動システム（ロボット、コンプレッサー、集塵機、ベーポライザー、ターンテーブル、他補助設備） ■自動溶射システムコントロール（ロボット、ガン、粉末供給の高い連動性） ■遠隔診断モニタリ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社沖山製作所

溶射システム　最新 溶射ガン 『 M4ガン』

ガンひとつあればノズルチェンジのみでご希望の溶射を可能にするガンをご紹…

【ノズル　ラインアップ】 ■HVAF＋O2 粉末用　ガスダイナミックバーチャルノズル ■HVAF 粉末用　ガスダイナミックバーチャルノズル ■フラッシュ　カーバイド　コーティング ■金属、合金 ■低融点金属、銅など ■チタニウム ■貴...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社沖山製作所

米国ユニークコート社製 高速フレーム溶射装置(HVAF)

高硬度、長寿命！面粗度は1.5～1.6μmと表面が滑らかな状態での仕上…

当製品は、音速の3倍近い燃焼フレームの中に粉末材料を供給し、 高速連続溶射を可能とした装置です。 施工表面の硬さ、WCベースで1600ビッカスと非常に硬く、酸化物が ほとんど無い皮膜が生成され、メタル系・サーメット系についても同様に、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社沖山製作所