• 一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末 製品画像

    一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末

    PRサブミクロンから塊状まで幅広くカスタマイズ可能なSiOパウダー。LiB…

    当社は、リチウムイオン電池(LiB)負極材料などとして活用可能な 『一酸化ケイ素(SiO)』を提供しています。 粉末状(1~100μm)、粒状(1~5mm)、塊状(50~200mm)に対応し、 サブミクロンレベルまでカスタマイズ可能です。 1μmの粉末でSiO純度99.8%、5μmの粉末でSiO純度99.9%などの製品事例があります。 【特長】 ■製造方法:結晶化学気相成長法 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • ナノスピードディップコーター ND-0407-S5 製品画像

    ナノスピードディップコーター ND-0407-S5

    ディップ速度、超低速度の1ナノm/sec、3次元制御を実現!!

    アクリル、銅箔、チューブ状の物質に超低速のナノ単位の速度 (1nmごとの可変)にてディップコート(ディップコーティング)が可能なディップコーターです。 ナノレベルの膜厚形成、オパール膜、粒子配列、結晶生成等に適しています。 操作はタッチパネル方式を採用。2軸同期、1軸単独運転も簡易に操作が出来ます。 速度変更ポイント(最大16ポイント)、速度変更(1nm単位)、繰返し動作、動作 パターン...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社SDI

  • マイクロスピードディップコーター MD-0408-S8 製品画像

    マイクロスピードディップコーター MD-0408-S8

    速度可変域の広さで、当社装置人気度NO1ディップコーター

    変にワイドで使い易い仕様となっています。 ガラス、アクリル、銅箔、チューブ状の物質にディップコート(ディップコーティング)が可能なディップコーターです。 分離膜生成、粒子配列、ナノレベルの膜厚、結晶形成に適しています。 操作はタッチパネル方式を採用。 速度変更ポイント(最大16ポイント)、速度変更(1μm又は1nm/sec単位)、繰返し動作、動作パターンの記憶(最大8パターン)がタッチパ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社SDI

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