小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】

PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D39...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

リニア有機材料蒸着器『LOE』

デリケートな有機材料の処理に最適化した熱設計！蒸発物および基板への熱影…

『LOE』は、密閉したルツボから熱により有機材料を蒸発させる コンポーネントです。 デリケートな有機材料の処理に最適化した熱設計が、蒸発物および基板への 熱影響を最小限に抑制。その蒸気は、基板へ通じる加熱パイプを通って供給され、 リニアノズルアレイから基板に放出されます。 有機蒸気に接触するすべての部品、特にルツボとノズルパイプは、有機 EL材料に対して全く不活性なセラミックで...

メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社

真空コーティングテクノロジー＆装置

セパレータ用導電性保護膜！層スタックのICR、耐腐食性、スタック性能は…

当社の『真空コーティングテクノロジー＆装置』をご紹介いたします。 カーボンベースの多層膜構造は、低いICR（界面接触抵抗）、優れた基材 密着性と同時に耐腐食性を両立する様最適化。この層スタックのICR、 耐腐食性、スタック性能は金（基準材料）に匹敵します。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【成膜装置】 ■カーボン、金属、酸化物などを金属基板上に高スループット ...

メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社

リニアPECVDプラズマ源

物理蒸着(PVD)プラズマ源以外に、様々な化学的気相成長(CVD)プラ…

『リニアPECVDプラズマ源』は、標準的な静電容量結合プラズマ電極に類似した 製品です。 インラインダイナミックモードで動作しており、基板、キャリア、または ウェブは絶えず電極を通過し、連続的に製膜されています。 CCP CVDを用いる静止モードで大型の基板を均一に製膜するという機械的、 電気的な大規模作業が求められる場合であっても、リニアPECVDは 空間パラメーターを一次元...

メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社