日本国際工作機械見本市「JIMTOF2024」出展のご案内

PR【実機デモあり】「精密加工の追求・自動化の推進・複合加工による付加価値…

株式会社タカハシキカイは、東京ビッグサイトで開催される 第32回日本国際工作機械見本市「JIMTOF2024」に出展いたします。 今回は「精密加工の追求・自動化の推進・複合加工による付加価値向上」を コンセプトに4機種の実機でのデモンストレーションを予定。 【出展機の見どころ(抜粋)】 ■WT50型 ・平行2スピンドル、2タレット(8st.)、Y軸付複合加工機 ・揺動切削で切粉の問題を解決、ク...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社タカハシキカイ

LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液…

薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥できる枚葉洗浄装置です。 強固着物の除去と薬液スプレーによる金属汚染除去が可能で、オプションで端面同時のスクラブ洗浄も対応できます。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ4”　厚みについては応相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせい...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

小径ウェハ（LT・SiC等2〜6インチ）両面同時スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れずに搬送・乾燥が可能なスクラブ洗浄装置！独自機構の表…

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置（研究開発用）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（研究開発用）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（量産型）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）