リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

薬液供給装置（連続式）　P112

PRプロセス装置に連続で薬液を供給

本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法：W1720*D810*H2010 ○重量：約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノメイト

【半導体製造装置向けご提案例3】ExpEtherソリューション

新しい拡張カードやプラットフォームを採用可能！段階的なHWのアップデー…

「ExpEtherソリューション」における半導体製造装置向けのご提案例を 紹介いたします。 VME CPUボードからBOXPCへの切り替えでは、レガシーシステムとの互換性や ハードウェア/ソフトウェアの流用性を確保しながらも、新しい拡張カードや...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アドバネット

【半導体製造装置向けご提案例1】ExpEtherソリューション

別筐体に分けられるため、部品選定に関する制約(筐体サイズ、バスなど)が…

高解像度カメラによるウェハ検査装置のご提案例を紹介します。 別筐体に分けられるため、部品選定に関する制約(筐体サイズ・バスなど)が 緩和しやすく、部分ごとの修理や更新等がしやすいことも特長。 また、最終製品のモデルごと...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アドバネット

【半導体製造装置向けご提案例2】ExpEtherソリューション

ソフトウェア要素(ドライバ等)が減り、開発のリスクやコストが下がると期…

検査データの保存についてのご提案例を紹介します。 Infiniband、Ethernet等を通してSANへ接続するのではなく (ソフトウェア的に)PCIeとしてストレージBOX内のNVMeへ接続すると、 ソフトウェア要素(ドライバ等)が減り、開発のリスクやコストが 下がると期待。 当社は、組込み技術からIoT、HPECまで豊富な経験で好適なシステム＆ ソリューションをご提案いた...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アドバネット

【資料】ExpEtherソリューション

PCI ExpressバスをEthernetに変換して延長することを可…

フォームファクタで実装可能な 「ExpEther」のソリューションを掲載してます。 「StarFabricからの置き換えについて」や「ExpEtherによるシステム構成例」、 「半導体製造装置向けご提案例」などをご紹介。 当社では、組込み技術からIoT、HPECまで豊富な経験で好適なシステム＆ ソリューションをご提案します。ぜひご一読ください。 【掲載内容(一部)】 ■E...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アドバネット