薬液供給装置（連続式）　P112

PRプロセス装置に連続で薬液を供給

本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法：W1720*D810*H2010 ○重量：約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノメイト

リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

SF6ガス回収装置

絶縁ガストランス、開閉器機の絶縁媒体を代表とするSF6ガスの処理装置

絶縁ガストランス、開閉器機の絶縁媒体を代表とするSF6ガスの処理装置です。現場でSF6ガス封入機器により回収、貯蔵しながら精製し、機器に再充填します。回収方式には気体回収と液化回収があります。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三美テックス

ドライエア（乾燥空気）発生装置（ヒートレス方式）

ドライエア（乾燥空気）発生装置（ヒートレス方式）

本装置は、シリカゲル、空気圧縮機、ヒートレスドライヤ、フィルターなどから構成され、連続的に変圧器にドライエアを送り空気中の水分・塵埃を取り除くもので、その工程は、圧縮空気中の湿度および温度を下げ、また吸着...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三美テックス