• レーザーマーカー『UBI Basic』 製品画像

    レーザーマーカー『UBI Basic』

    PR安全性が高いClass1製品仕様!高出力パフォーマンスでリーズナブルな…

    『UBI Basic』は、アルミ・鉄・SUS等の金属部品、工具、銘板などの 小・中型ワーク向けの高出力でコストパフォーマンスに優れたレーザーマーカーです。 一品一様のマーキング工程に適しており、独自のMicro aWave レーザーソースにより様々な対象物にマーキングが可能。 Z軸ボタンによりステージの昇降、電磁式インターロックを 標準搭載、正面スタートボタンで簡単にマーキング開...

    • 2022-10-13_09h25_21.png
    • 2022-10-13_09h25_33.png
    • 2022-10-13_09h25_42.png
    • 2022-10-13_09h26_07.png
    • 2022-10-13_09h26_13.png
    • 2022-10-13_09h26_21.png
    • 2022-10-13_09h26_28.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社東陽 グローバル商品課

  • 特許取得Pef Prism疑似立体印刷 製品画像

    特許取得Pef Prism疑似立体印刷

    PRRef Prism

    2次元印刷に新たな表現方法 デザインの曲線部を強調! 曲線のエッジが光る効果を表現 レンズフィルムの種類によって曲線部に多種多様な表現が可能! 白印刷部の濃淡で光る効果の強弱調整により更に表現の幅広さを持たせる効果も 加工材料 ・テープ類 一般用、強粘着、遮光、防水、導電性 他 合成樹脂類 ポリ塩化ビニール(PVC)、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレンテレフタレート(...

    • IMG_1785.jpg
    • image2.jpeg
    • image1.jpeg
    • image0.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 智昌加工株式会社

  • [IP法]Arイオン研磨加工 製品画像

    [IP法]Arイオン研磨加工

    IP法は、研磨法の一種でイオンビームを用いて加工する方法です

    表面から試料原子が弾き飛ばされるスパッタリング現象を利用して、試料表面を削り取る方法です。 イオン種は通常試料との化学反応の心配のない希ガス(MSTではAr)が用いられます。加工面のAES分析では遮光板成分(Ni,P)は検出下限以下でした。...

    • 打ち合わせ.jpg
    • セミナー.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 【分析事例】バイポーラトランジスタ(IGBT)の不良品調査 製品画像

    【分析事例】バイポーラトランジスタ(IGBT)の不良品調査

    高電圧電源を用いたエミッション顕微鏡による故障箇所の特定

    発光像とIR像の重ね合わせにより、リーク箇所を顕微的視野で特定できます。クラックや静電破壊など大規模な外観異常がある場合は、IR顕微鏡でも異常を確認可能です。また、エミッタ電極の遮光により、発光が検出できない場合には、コレクタ電極を除去し、コレクタ側から近赤外光を検出します。 2000Vまで印加可能な高電圧電源を用い、高耐圧で低リーク電流のパワーデバイスを動作させ、エミッショ...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • フラグメント解析 製品画像

    フラグメント解析

    現在開発されているDNA鑑定法やDNA品種識別法として多数使用されてい…

    画像にマーカー濃度から算出される各PCR産物の濃度を、  概算で構いませんのでご記入いただき、PCR反応液と共に送付 3.PCR産物を原液のまま10μl送付  なお、溶液はアルミホイル等で蛍光遮光する ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ファスマック

1〜3 件 / 全 3 件
表示件数
15件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • bnr_2403_300x300m_ur-dg2_dz_ja_33566.png
  • 修正デザイン2_355337.png

PR