【事例資料進呈！】非金属や難削材も加工可能！高精度な両面研磨

PR真鍮、セラミック、タングステンなど難削材もお任せあれ！板厚精度±5μ・…

『精密両面研磨』は、ディスク型砥石でワークを挟み上下同時に研磨する技術です。 上下から圧力をかけるためワークの反りを抑えられ、平面平行を高精度に維持。 ワーク板厚精度±5μ・平面度10μ・平行度5μを実現します。 表面粗さを指定通りに仕上げられ、また【鏡面等】高品位面の仕上げを実現致します。 マグネットチャックではないため、非磁性体にも加工を施せます。 【特長】 ■インコネ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社諏訪機械製作所

一般金属向け鏡面仕上げシリカ研磨材『CLEALITE』

銅・アルミニウム・ステンレス・チタニウムなどの一般金属向け！

鏡面仕上げ材『CLEALITE』は、一般金属向け鏡面仕上げ材です。 “2340”は特殊組成液とともにメカノケミカルポリシング作用にて、10nm（Rmax）の表面粗さとスクラッチフリーの表面に仕上げることが可能なポリシングスラリーです。 “S”は分散性の良いシリカパウダーをベースに、選択加工を抑制する組成液をバランスよく配合した金属材料専用のファイナルポリシングスラリーと開発されました。 【注目...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フジミインコーポレーテッド

化合物半導体用の研磨材、エッチング材『INSEC』

化合物半導体結晶をメカノケミカル加工によって精度よく鏡面に仕上げる！

『INSEC』は、化合物半導体結晶をメカノケミカル加工によって 精度よく鏡面に仕上げるポリシング材です。 種類も豊富で、GaAsウェーファー用の「FP(一次用ポリシング材)」、 「NIB(ファイナル用ポリシング材)」、GaPウェーファー用の 「P(ファイナル用ポリ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フジミインコーポレーテッド

シリコンウエハー用コロイダルシリカ研磨材『GLANZOX』

より高い平坦性、ダメージフリー、重金属汚染フリーなど完全鏡面の要求にお…

に分散させ優れた研磨面の実現を可能にしました。 近年、デバイス特性に影響する金属不純物についても厳しい低減要求がなされています。これに対し超高純度コロイダルシリカを開発。 ウェーファー端面を鏡面に仕上げる専用のポリシング材「GLANZOX Eシリーズ」などをご用意しております。 【特長】 ■コロイダルシリカを特殊組成液に分散 ■優れた研磨面の実現を可能に ■超高純度コロイダルシ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フジミインコーポレーテッド

高純度コロイダルシリカスラリー研磨材『COMPOL』

高能率でダメージフリーの研磨面が得られる！サファイアなどの電子材料基盤…

『COMPOL』は、サファイアなどの電子材料基盤、金属材料およびセラミックスのポリシング専用に開発された高純度コロイダルシリカスラリーです。 粒子の均一性、分散性に優れ、高能率でダメージフリーの研磨面が得られます。 【掲載内容】 ‐COMPOLの代表的物性 ・SiO2量 ・PH ・比重 ・平均粒子径 ・標準入数 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フジミインコーポレーテッド