• フッ素系溶剤で精密洗浄とランニングコスト削減を実現する洗浄装置 製品画像

    フッ素系溶剤で精密洗浄とランニングコスト削減を実現する洗浄装置

    PRパーティクル除去性能と溶剤の低消耗の2つの機能を兼ね備えたフッ素系真空…

    真空超音波洗浄装置「SAUBER/ザウバー」は、パーティクル除去に特化し、 精密洗浄に有効な多くの機能を搭載しながら溶剤の低消耗を実現する1槽式真空密閉型洗浄装置です。 従来から純水洗浄で行われているパーティクル除去・除塵洗浄をフッ素系溶剤洗浄で行うことが可能です。 純水と比べるとフッ素溶剤は排水が出ないクローズドシステムですので、工場側排水設備への負荷がありません。 また、液の再生利用も容易...

    メーカー・取り扱い企業: 富士ハイテック株式会社

  • アンモニアを含む排水処理に!『アンモニア除去・回収装置』 製品画像

    アンモニアを含む排水処理に!『アンモニア除去・回収装置』

    PR【多数導入実績あり】必要に応じた濃度のアンモニアの回収が可能な装置のご…

    アンモニア除去・回収装置は、廃水中のアンモニアを放散回収する過程で使用される装置です。 これにはスチームで放散する方法と空気で放散する方法があります。 アンモニアは、用途に応じた濃度のアンモニア水、もしくはアンモニアガスとして回収することが出来ます。 硫安として回収することも可能です。 触媒を組み合わせることで放散させたアンモニアを分解させ、無害化することも可能です。 【特長】 ■必要濃度でア...

    • NH3回収フロー図_01_.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 第一エンジニアリング株式会社

  • ガス不要!有機物を除去可能な小型のプラズマ処理装置 製品画像

    ガス不要!有機物を除去可能な小型のプラズマ処理装置

    面状の大気圧プラズマで表面クリーニング!直径50mm内の平面で均一に処…

    卓上大気圧アッシャーとは、水や洗剤を使わず、大気圧プラズマにより有機物を除去可能な小型のプラズマ処理装置です。 搬送機で動かすことなく、直径50mm内の平面で均一に処理可能です。 大気圧での有機物除去とクリーニング用途等【面】状のワークに適しています。 【特徴】 ■点でもなく線でもなく『面』を一気に処理可能 ■実験に適している小型卓上サイズ ■ガス供給と真空排気設備が不要 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社魁半導体

  • 従来の約 1/3 の価格設定!卓上真空プラズマ装置 製品画像

    従来の約 1/3 の価格設定!卓上真空プラズマ装置

    有機物の除去・クリーニング可能!ガス導入せず残留大気で処理するタイプよ…

    当社の真空プラズマ製品は洗浄やエッチング、薄膜形成など幅広い研究で利用されています。 ガス導入型「YHS-G」は複数のガス導入に対応し流量調整や細かな処理条件の設定が 可能な高機能製品として研究や生産現場でも利用されています。 今回「YHS-O」をシリーズのラインナップに加え、 ガス導入は酸素に限定し、本体の機能や構造を見直して新たに開発しました。 当社従来品の約 1/3 の価格...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社魁半導体

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