【日本製】ハンド式金属探知器全金属検出用『JM-9V2』

PR【スイッチオンですぐ使用できすべての金属を検出】製品に混入した金属片の…

『JM-9V2』は、日本製の小型軽量で高感度のハンド式金属探知器です。センサー部は薄型で腕の内側など狭いところの検査も容易にできます。検出部のアラームは、ブザーもしくはバイブレーションを選択可能。 【用途】 ■所持品検査での凶器発見 ■製品に混入した金属片の検出 ■体感器検出などのゴト師対策 ■リサイクル品の中の金属検出 ■MRI、CT検査前のアクセサリーなどのチェック ※詳...

メーカー・取り扱い企業： 日本金属探知機製造株式会社 本社

【コーター】小型塗工機、低価格、短納期、試作、選べる塗布方式

PRダイ、グラビア、ロールコート、ロールtoロールの装置を小型、低価格、短…

コアボックスジャパンはコーターやロールプレスなどの二次電池試作設備、 高機能フイルム関連のコーターなどの装置を低価格、短納期で提供します。 また、制御盤設計製作、制御システムの構築を得意とする電気部門があり、様々な装置の制御お任せください。 当社の『コーター』は、小規模な研究施設に適した小型のものから、 生産機まで幅広く対応しています。 塗布方式もお客様のニーズに適した提案をい...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コアボックスジャパン

ロール to ロール式　フィルム洗浄装置・金属箔表面処理装置

ロール to ロール式　フィルム洗浄装置・金属箔表面処理装置です。 …

・TAB/COFなどのフィルムキャリアテープ洗浄 ・特殊光学フィルム洗浄 ・蓄電デバイス用金属箔材料の表面処理 表層に積層物がある特殊フィルム基材や 蓄電デバイスの集電体などで使用されている 金属箔の表面処理をロールtoロール方式で 連続的に処理するウエット処理装置です。 近年注目されている２次電池用部材の開発用、 ドライ洗浄機では除去が困難な付着物の洗浄など ラボレベル...

メーカー・取り扱い企業： 進和工業株式会社 本社工場

燃料電池機能膜コーティング装置『SIFC型シリーズ』

サブストレート（ウエーブ）形状に対応した薄膜から厚膜のコーティングをご…

『SIFC型シリーズ』は、燃料電池用専用として開発設計された 小型スプレー式コーティング装置です。 特殊アトマイジング方式により、適した微小粒子を積層コーティング。 また、貴重サンプル液が数ccでもコーティング可能です。 【特長】 ■0.01μm～100μm（程度）の膜厚形成可能（フォトレジスト・FC触媒膜） ■特殊間欠塗布で安定塗布可能（テフロン分散液・FC触媒液・撥水膜他）...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ミックラボ 本社

大気圧プラズマ装置 Plasma Beam

圧搾空気を用いたアーク放電式の大気圧プラズマ装置 　‐低ランニングコ…

ドイツDiener(ディエナー) Electronic社は1993年に設立され、研究開発・少量処理用の小型モデルを始め、大型処理機まで幅広くプラズマクリーナーを取り扱っております。 Diener社の大気圧プラズマ装置は、プラズマノズルの電極部に高電圧フィールドを形成し、そこを通過するガスをプラズマ化します。 そのプラズマをエアーの気流で大気中に照射し、対象製品のクリーニングや親水性改善を行い...

メーカー・取り扱い企業： テクノアルファ株式会社

黒鉛化設備シリーズ

3000°Cの超高温焼成！受託生産・設備・サンプルテスト承ります

当社では、リチウムイオン電池の黒鉛負極材など、 先進の炭化・黒鉛化炉処理に適した設備を保有しております。 お客様の仕様に合わせ、処理温度1000°C～3000°Cと幅広く対応可能です。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【ラインアップ】 ■誘導加熱式連続黒鉛化炉 　・処理量：40L/トレー 　・被処理物形状：粉、成形体、シート等 　・主用途：LiB負極材の黒鉛化処...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社IHI機械システム 本社　セールスグループ

『流動層式大気圧 プラズマ粉体処理装置』

大容量の粉体表面改質装置

本製品は、粉体の表面改質（溶液への分散性向上、コーティングの 前処理等）を大容量で行うことが可能な処理装置です。 粉体を液体のように混合・攪拌することが可能な「流動層」技術を応用し、 プラズマにより生成された活性種を効率よく粉体に曝すことで プラズマ発生部と処理部を分離します。 また、真空チャンバーを必要としないためスケールアップも容易。 従来の装置では採用できなかった用途へも...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

原子層堆積（ALD）装置

豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

コンパクトな卓上型ALD。 半導体デバイス、有機太陽電池、ナノワイヤー、量子ドットなどへの成膜により、表面保護や改質など様々なデバイス開発にご使用いただけます。 プロセスはALD・CVDの材料開発拠点で開発されたもの。 順次レシピを増やしてゆき、新規のプロセス開発も承っております。...設置面積：48x48cm 基板サイズ： 最大4インチ プレカーサー材料：５系統 方式：ホットウォール...

メーカー・取り扱い企業： ALDジャパン株式会社