• 半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター PICS3D 製品画像

    半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター PICS3D

    PR新たにクロスライト社のFDFDが加わり、FDTDより計算がかなり速く高…

    <主な特徴> ■共振器方向の効果が重要なデバイスの設計・解析に適しています ■モード結合理論と多層膜光学理論によりDFB,DBR,VCSELのような回折格子を 含むレーザダイオードが計算可能 <多様な物理モデルや機能> ■ウェーブガイド・グレーティングの結合係数(1次、2次のグレーティング) ■縦方向のキャリア密度分布、主・副縦モードについての光学利得と光強度 ■2次グレーテ...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • B-61-L ハルセル  電流密度早見板ロングタイプ  製品画像

    B-61-L ハルセル  電流密度早見板ロングタイプ

    煩雑な計算をしなくてもロングハルセル陰極板にあてるだけで、簡単に電流密…

    ハルセル陰極板にあてて使用します。 この電流密度の算出方法は当社が独自に割り出した計算式を使用しています。 各電流密度でのめっき状態が観察しやすくなります。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社山本鍍金試験器

  • メッキ装置『メッキベーシック』 製品画像

    メッキ装置『メッキベーシック』

    使いやすさと小型化を追求!定電流制御回路採用で電流密度の調整が不要に!

    『メッキベーシック』は、わずらわしい電流密度の調整が不要の 定電流制御回路の採用で、作業性が向上したメッキ装置です。 メッキ槽に搭載されたヒーターで、メッキ液を適温に保ちます。 温度は45℃と55℃から選択できるのでメッキ液に合わ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハープ

  • 高融点ハンダめっき材料『DAIN TINGOOD 802』 製品画像

    高融点ハンダめっき材料『DAIN TINGOOD 802』

    比較的高い電流効率でのめっきが可能!安定したSb含有量(約10wt%)…

    【仕様】 ■電流密度(A/dm2) :4(1~6) ■浴温(℃) :45(30~55) ■攪拌:適切な浴攪拌、陰極揺動 ■アノード:不溶性 ■極比:適宜 ■ろ過:常時ろ過推奨 ※詳しくはPDF資料をご...

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    メーカー・取り扱い企業: 大和化成株式会社

  • アルミダイカストにダイレクト黒色クロムした時の外観を均一にしたい 製品画像

    アルミダイカストにダイレクト黒色クロムした時の外観を均一にしたい

    無光沢となるような電流密度条件!アルミダイカスト素材への安定的な黒色化…

    【提案】 ■無水クロム酸、硝酸成分、フッ化物成分のバランス ■無光沢となるような電流密度条件 ■ダイレクトめっきを実現するための下地処理の開発 ●詳しくは弊社HPをご覧いただき、お問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: サン工業株式会社

  • 『環境対応型全自動バレル式亜鉛めっきライン』 製品画像

    『環境対応型全自動バレル式亜鉛めっきライン』

    24時間体制で重なりや打痕の少ない高品質なめっき製品を安定供給!生産設…

    きラインです。 長物に対するめっき膜厚均一性を可能とし、ベーキング炉がインライン化されていることから 24時間体制で重なりや打痕の少ない高品質なめっき製品を、安定供給いたします。 低電流密度にてめっき時間を少し長くすることで、めっき膜厚均一性が可能。 低電流密度のため、高いCO2削減効果が期待できます。 【特長】 ■高品質 ■環境対応 ■マルチ対応 ■CO2削減効果 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日比野鍍金工業所

  • 耐熱性向上 ノンシアンアルカリ銀めっき浴 ダインシルバー BPL 製品画像

    耐熱性向上 ノンシアンアルカリ銀めっき浴 ダインシルバー BPL

    従来のノンシアン浴に比べ、下地銅の拡散による変色を抑制!

    【標準めっき使用条件】 ■Agイオン濃度(g/L):15 ■めっき液のpH:10 ■めっき浴温度(℃):40℃ ■電流密度:0.1~1A/dm2 ■攪拌:品物揺動、浴撹拌 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 大和化成株式会社

  • 小物専用めっき装置『フロースループレーター RP-2』 製品画像

    小物専用めっき装置『フロースループレーター RP-2』

    第1めっき、水洗、第2めっき等の一連の工程が1つのモジュールで行えます…

    モジュールの追加により対応できます。 当製品をベースに、全自動運転による生産性の向上と省力化・無人化を実現のために 開発された「RP-2FA」も取り扱っております。 【特長】 ■高電流密度(高速)めっきができる ■フィルター変更により微粉体(10〜50μm)のめっきが可能 ■液の持ち出し/持ち込み量およびガス/ミスト発生量が従来装置と  比較すると極端に減少する ■第1めっ...

    メーカー・取り扱い企業: 上村工業株式会社

  • ノーシアン銅ストライクめっき『FC COPPER』 製品画像

    ノーシアン銅ストライクめっき『FC COPPER』

    有害物質不使用で、自然環境や作業環境に配慮した表面処理が可能。シアン浴…

    【めっき作業条件】 浴温:50~55℃ pH:10.5~11.5 陰極電流密度(A/dm2):1.0~2.5 めっき時間(分):3~10 【設備条件】 めっき槽:一般的なPVC槽 など ろ過装置:約5回転/1時間 10μm糸巻きフィルター 加温装置:SUS投げ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社シミズ

  • シリコンウェハ用めっき実験装置セット 製品画像

    シリコンウェハ用めっき実験装置セット

    2~12inchシリコンウェハ用のめっき装置です。

    電流密度分布とめっき液の循環を考慮した特殊な水槽と治具で構成されています。専用の治具を使用することで、半導体・MEMSの精密なめっきが行なえます。常時ろ過を行いながら水槽底部からゆるやかな対流を起こし、オーバーフローする構造で、1面オーバーフロータイプと、高速撹拌が可能になった2面オーバーフロータイプがあります。直接の撹拌にはパドル撹拌を利用します。 ウェハ用めっき装置として20年の実績があり、多...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社山本鍍金試験器

  • 【めっきの知識】無電解ニッケルめっき膜厚の均一性 製品画像

    【めっきの知識】無電解ニッケルめっき膜厚の均一性

    ニッケルイオンを還元し続けることで膜厚が増量!めっき被膜の均一性につい…

    無電解ニッケルめっきが使用される大きな理由の1つにめっき被膜(膜厚)の 均一性があります。 その形状により電流密度が高くなる箇所(角・エッジ部)にめっき被膜が生成されやすい 電気めっきと異なり、めっき液と被めっき物(素材)の還元反応を利用し、被めっき物の 表面にニッケル被膜を生成させるため無電解ニッケルめ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社遠州クロム

  • 【問題解決事例】黒ニッケルめっき外観の歩留まり改善 製品画像

    【問題解決事例】黒ニッケルめっき外観の歩留まり改善

    キャピラリー電気泳動分析装置を用いて分析管理!れぞれの成分を個別に補給…

    【提案】 ■黒ニッケルめっき液は硫酸ニッケル、硫酸亜鉛、ロダンアンモンなどいくつかの  成分で構成され、これを個別に分析管理し高い電流密度でも剥離が発生しにくくする ●詳しくは弊社HPをご覧いただき、お問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: サン工業株式会社

  • B-52-1DWJハルセル試験装置10A15型 製品画像

    B-52-1DWJハルセル試験装置10A15型

    初めてハルセルを揃える場合はこのセットが便利

    陰極電流密度・光沢剤・微量不純物試験に使えます ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社山本鍍金試験器

  • B-61 ハルセル  電流密度早見板  製品画像

    B-61 ハルセル  電流密度早見板

    煩雑な計算をしなくてもハルセル陰極板にあてるだけで、簡単に電流密度分布…

    ハルセル陰極板にあてて使用します。 各電流密度でのめっき状態が観察しやすくなります。 日本語と英語が併記されています。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社山本鍍金試験器

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