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    SiCパワー半導体製品『CoolSiC MOSFET G2』

    PRパワーシステムにおけるエネルギー変換効率を強化。次世代型の炭化ケイ素(…

    SiCパワー半導体製品『CoolSiC MOSFET G2』は、次世代型のトレンチ技術をベースに 低損失化を実現したインフィニオンの最新世代となる第2世代SiC MOSFETです。 電力密度や蓄積電荷といったMOSFETの主要性能数値を、 品質と信頼性のレベルを損なわずに前世代より最大20%向上。 全体的なエネルギー効率を高めており、脱炭素化に一層寄与します。 太陽光発電インバー...

    メーカー・取り扱い企業: インフィニオン テクノロジーズ ジャパン 株式会社

  • 【PACK】パウチの整列箱詰め パウチストッカー『CS-300』 製品画像

    【PACK】パウチの整列箱詰め パウチストッカー『CS-300』

    PR台車部のレール及び車輪は動きがスムーズになる様、特殊な形状を採用してい…

    『CS-300』は、充填包装機にて一袋又は複数袋単位の連包状に切断された パウチ(小袋)を整列箱詰するパウチストッカーです。 シャッターの回転はACサ-ボモ-タ駆動を採用。 高速運転であるにもかかわらず静かな作業環境を保てます。 2段シャッター方式を採用しているので、箱切換えに際して供給を一旦 停止することなく連続的にパウチを計数し続けます。 【特長】 ■装置能力240ヶ...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三橋製作所

  • ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】 製品画像

    ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

    Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

    Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。 熱CVD、低温~高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。...【装置構成例】 ・基板:Cu, Ni, 他..(フィルム, フォイル) ・原料:CH4, C2H4, solids (P...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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