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立体構造の電極形成に最低、電解メッキ方式3次元フォトリソ技術
■□■特徴■□■ ■導電性のある面ならばレジスト膜を均一に形成することができる ■端面や角部を含め、立体形状全体にフォトエッチング加工が施せる ■メッキと電着レジストの技術を併せることで、三次元基板に セミアディティブ法も応用できる ■詳細は、お問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: フォトプレシジョン株式会社
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