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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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画像処理用LED・直接照射照明 ライン照射型
ライン状にLED素子を実装したバータイプの照明です。 <特長> ●素子間ピッチ4mmからの高密度実装。高い照度で対象をダイレクトに照射します。 ●1本での単独照射、2本で挟み込んでの照射など、多様なライティングが可能です。 ●拡散板や偏光板などオプションの取付にも対応します。 ●発光面...
メーカー・取り扱い企業: 日進電子工業株式会社 営業部
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