リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

Siプラスチックカプセルフォトダイオード

◆プラスチックカプセル化されたフォトダイオード ◆高品質、高信頼性 …

・低暗電流 ・標準リード ・SMT ・モールドレンズ ・横向きあり ・チップ上にフィルター(700nmカットオフ） OSI オプトエレトロニクス社はオプトエレクトロニクス分野でインドとマレーシアに世界クラスの製造施設を持ち30年以上の経験があります。当社は大量生産の要件を満たすための効率的な製造と優れたエンジニアリングソリューションを作り出し続けています。 OSI オプトエレ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オプトロンサイエンス

DUV フォトリソグラフィ用 基板、コンポーネンツ

◆DUVフォトリソグラフィ向◆高品質な合成結晶石英基板を利用した各種コ…

ントを製造しています。 DUV(深紫外)波長レーザーを用いたフォトリソグラフィー技術は半導体、ナノテクノロジーをはじめ各種の産業用途に利用され私達の生活に欠かせないものになっています。更なる高密度化／狭線幅化に伴いKrFエキシマレーザー(248nm)、ArFエキシマレーザー(193nm)が広く利用されそれら光源を取り巻く高性能な各種の光学コンポーネントへの要求が高まっています。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オプトロンサイエンス