リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

技術図書【携帯機器用小形アンテナの高密度実装設計】

～スマートフォン、電子書籍リーダー等の開発に必須の～

作原理 第2章　小形アンテナの理論(新井宏之) 　1　アンテナ小形化の理論的限界値 　2　アンテナの大きさとクリアランス 　3　小形アンテナの分類 　4　アンテナの小形化手法 第3章　高密度実装用小形アンテナの実際(新井宏之) 　1　容量装荷型モノポールアンテナ 　2　ヘリカルアンテナとメアンダラインアンテナ 　3　板状逆F型アンテナ 　4　誘電体装荷型アンテナ 第4章　携...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トリケップス