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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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最大移動量0.3インチ/0.5インチの微調整機構を備えているポジショナ…
【特徴・仕様】 [XYZ-300シリーズ] ○部品はすべて高精度研磨、高密度黒色アルマイト仕上げで、 無給油にて使用可能 ○調整ノブはゴールドアルマイト仕上げ ○左ハンドル(左利き用)・右ハンドル(右利き用)あり ○工業用途、メディカル、バイオロジカル、半導体、...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社キーストンインターナショナル
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