【実例掲載】半導体製造装置向けWEB展示会

PRコネクタで解決！半導体製造装置開発のよくある課題事例をご紹介。

【このような課題に直面していませんか？】 1）通常以上高温環境での熱対策 2）小空間での簡易篏合で高密度接続 3）高圧真空での高い気密性と防水性 4）近隣機器から360度の強いノイズの対策 5）機器への高電圧と大電流の供給 【ご紹介コネクタ】※WEB展示会にてご覧いただけます。 ・MAX250℃の耐熱性能、耐高温丸型コネクタ ・取付困難な小さな限られたスペースでも接続可能、小型...

メーカー・取り扱い企業： レモジャパン株式会社

大気圧プラズマ装置　

大気圧Plasma装置の開発・製造・販売累計1200台以上の実績（20…

る表面改質装置へと繋がり、2002年08月 表面処理装置が完成、さらに、コーティング・フィルム・プリント基板業界への進出を決定する契機にもなりました。 イー・スクエアは、超小型･軽量で高い信頼性と高密度プラズマ発生を有した 常圧Plasma表面処理装置　『Precise II』の開発、製造、販売後、累計1200台以上（2021年）の販売実績を有します。 【特徴】 ○新しくなったPreciseシ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

今さら聞けない大気圧プラズマ装置の選び方　※解説資料進呈

"大気圧プラズマ装置の処理形態"や"当社独自の装置特長"などについて解…

アーク等を用いた装置ではなく、 完全なるバルクプラズマを発生させた大気圧プラズマ装置を主体に置き、説明しております。 特殊電極構造を用い、窒素ガス・希ガス等をベースに高周波電力を電極に印可し、 高密度プラズマを発生させることによりが生成された高密度の活性種が ワーク表面に官能基や水酸基、アミン基を付与し、 濡れ性や、塗布性能、有機物除去等の処理が可能になります。 添加ガスを変えることにより、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ装置 「Preciseシリーズ」

従来比50％の性能UP！低N2消費（約45％削減）の大気圧プラズマ装置

ダウンストリーム型) ■半導体素子上の処理でも素子特性変化がない ■有機表面、内部へのUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■残渣物が出来ない表面乾燥ができる ■高密度ラジカルの生成により、窒素ガス消費量の４５％削減（従来比） ■添加ガス種の変更により、マトリックス材に見合う官能基かアミン基の選択が可能 ■各種材質表面へのダイレクト接着技術 ■還元処理...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ『Precise』シリーズ　※資料進呈中

【異種接合・接着剤レス直接接合】密着性・親水性などが向上！炭素繊維を高…

上の処理でも素子性能変化がない ■処理中表面へのUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■残渣物が出来ない表面乾燥ができる ■反応性の高い酸素ラジカル粒子を高密度に生成するので、高速に処理でき、生産性の向上に寄与 ■添加ガス種の変更により、マトリックス材に見合う官能基かアミン基の選択が可能 ■液晶ポリマー(LCP)本来の有効な電機特性を失うことなく、接...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ装置「AP Plasma　Precise II」

ダメージフリー・パーティクルフリーの大気圧プラズマ装置

ム型) ■半導体素子上の処理でも素子特性変化がない（完全な高周波電力遮蔽） ■処理中のUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■残渣物が出来ない表面乾燥ができる ■高密度ラジカル発生により、窒素ガスを半減、生産性の向上に寄与 ■添加ガス種の変更により、接着界面に見合う供給結合分子付与の選択が可能 ■パーティクルフリー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ装置によるCFRP・長尺繊維束向けの高効率表面改質

CFRP、グラスファイバー、長尺繊維への表面処理

い(ダウンストリーム型) ■半導体素子上の処理でも素子性能変化がない ■処理中表面へのUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■残渣物が出来ない表面乾燥ができる ■高密度ラジカル発生により繊維束内部まで効率的なドライ洗浄ができる。 ■添加ガス種の変更により、マトリックス材に見合う官能基かアミン基の選択が可能 ■界面制御による同種・異種材料接合技術...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ装置による繊維束状用表面改質

大気圧プラズマ装置を用いた効率的な繊維束状用表面改質方法

トリーム型) ■半導体素子上の処理でも素子性能変化がない ■処理表面へのUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■プラズマによる精密乾燥（乾燥痕のない）ができる ■高密度プラズマの発生により、窒素ガス消費量が４５％減 ■添加ガス種の変更により、接合相手材質に見合う官能基かアミン基等の選択が可能 ■共有結合分子付与による同種/異種材料直接・接合が可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア