リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

『TiB2 （ホウ化チタニウム）』

アルミ電解セルの電極保護やセラミック発熱体の出発原料などに使用可能！

【仕様（抜粋）】 ■化学記号：TiB2 ■分子量（g/mol）： 69.54 ■結晶構造：六方晶 ■比重（g/cc）：4.510 ■融点（℃）： 2、900 ■硬度 (モース硬度)高密度の焼結品で測定：9.5 ■粒子径サイズ：-400mesh ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 三洋貿易株式会社　ライフサイエンス事業部・ 産業資材事業部

『ZrB2（ホウ化ジルコニウム）』

カーボン含有耐火物の酸化防止剤や工業用セラミック複合材として使用可能！

様（抜粋）】 ■化学記号：ZrB2 ■分子量（g/mol）： 112.84 ■結晶構造：六方晶 ■比重（g/cc）：6.09 ■融点（℃）：2、400 ■硬度 (モース硬度)：8 ※高密度の焼結品で測定 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 三洋貿易株式会社　ライフサイエンス事業部・ 産業資材事業部