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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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研究開発用。超高密度ウルトラファインバブル(ナノバブル)発生装置 1…
「ナノクイック」ラモンドナノミキサーの連続した高せん断場によりウルトラファインバブル(ナノバブル)を高密度に発生させます。 ◆せん断力によりUFB発生 ラモンドナノミキサーのハニカム構造によるせん断力により高密度にウルトラファインバブル(ナノバブル)を発生させます。 ◆液・液混合が可能 標準仕...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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