リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

次世代容器『プラコンポ20kg/7.5kg』

鋼製容器の約60%の軽さ！半透明でガス残液量が見えてガス切れ防止に役立…

【その他の特長】 ■バルブ接続用のボスはアルミ合金製 ■LPガスの機密を保持する高密度ポリエチレン製のライナー ■フィラメントワインディング成形を施し、耐圧・破裂強度を保持 ■デザイン性にも配慮した高密度ポリエチレン製のケーシングを採用 ■バルブ・容器本体を美的に保護 ...

メーカー・取り扱い企業： 中国工業株式会社 東京支社