リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

非水性サンプルのピペッティング【ポスター】

高粘性、発泡性サンプルなど取り扱いが難しい非水性サンプルのピペッティン…

掲載内容 1. 高密度（または低密度） サンプル 2. 発泡性サンプル 3. 高蒸気圧性サンプル 4. 高粘性サンプル 5. 低表面張力サンプル 6. 感染性、腐食性、有害物質、放射性サンプル...

メーカー・取り扱い企業： メトラー・トレド株式会社