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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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企業の信頼性を高め、大切な資産や情報をお守りいたします
モニタリングシステムをご用意 ■広範囲での監視にも対応 ■高速回転、高倍率ズームで隅々まで監視が可能 ■更新レートは、ライヴ960コマ/秒で、細かな動きも逃さず記録 ■容量HD採用で高密度記録が可能 ■広範囲から、狭小スペースまで監視場所を問わない対応力 ■屋内・屋外適応で、室内のみならず外部からの侵入などもしっかりと記録可能 ■遠隔地からも画像チェックや管理ができるネットワ...
メーカー・取り扱い企業: 萬世電機株式会社
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